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株式会社KOKUSAI ELECTRICは、半導体デバイスの進化を支える半導体製造装置の専業メーカーです。同社は、半導体製造の前工程における「成膜プロセス」と「トリートメント（膜質改善）プロセス」を事業の軸としており、これらのプロセス装置の開発、製造、販売、搬入、セットアップ、さらにはメンテナンス、修理、部品販売といったアフターサービスまでを一貫して提供しています。特に、ウェーハ上にポリシリコン膜や絶縁膜などの薄膜を形成する成膜プロセス装置、および成膜後にプラズマや熱を用いて膜質を改善するトリートメントプロセス装置において、世界トップクラスの市場シェアを誇ります。 同社の強みは、半導体デバイスの複雑化、三次元化、微細化に対応する高度な技術力にあります。特に、高難易度成膜と高生産性を両立する「バッチALD技術」は、原子層レベルでの高品質な薄膜形成と、一度に数十枚以上のウェーハを処理できるバッチ成膜の生産性を融合させた独自のソリューションです。これにより、狭く深い高アスペクト比の溝や孔を持つウェーハに対しても、優れたステップカバレッジで成膜を可能にします。また、「トリートメント（膜質改善）技術」は、低温環境下での膜質改善を可能にし、膜中の不純物除去や粒子安定化を実現。200層以上の深孔を有する3D-NAND向けにも採用されるなど、主要メモリメーカーから高い評価を得ています。 同社は、熱流体力学、機械工学、制御工学、電気・電子工学、マテリアル工学、物理工学、プラズマ工学といった多岐にわたる技術を結集し、お客様の多様なニーズに応えるイノベーションを創出しています。世界中の半導体デバイスメーカーを主要顧客とし、装置のライフサイクル全体にわたる充実したアフターサービスを提供することで、半導体生産工場の安定稼働を支えています。今後も、半導体デバイス市場の拡大と高密度化・高性能化の要求に応えるため、高付加価値製品の販売拡大と研究開発に注力し、WFE（Wafer Fab Equipment：半導体製造装置市場）の成長を上回る売上成長を目指しています。