ネクスファイ・テクノロジー株式会社

ネクスファイ・テクノロジー株式会社は、大阪大学発のスタートアップとして、次世代パワーデバイスである炭化珪素（SiC）半導体デバイスを活用した高電圧機器の開発・製造・販売を主要事業としています。同社は、独自の技術により耐電圧1 kVクラスのSiCトランジスタを直並列接続し、10 kVを超える高電圧を高速にスイッチングする技術を確立。これにより、最大500 kHz、2.5 kWの高周波・高電圧パルスを発生させる「高周波パルス電源」と、立ち上がり速度100 ns以下の超高速パルスを発生させる「ナノインパルス発生器」を提供しています。これらの製品は、大気圧プラズマや液中プラズマといったプラズマ応用分野、およびモータ巻線の絶縁劣化評価に不可欠な絶縁試験器として幅広く利用されています。特に、液中プラズマ技術を用いたPFAS（有機フッ素化合物）の分解においては、高効率な「完全分解」に成功し、環境問題解決への貢献が期待されています。同社の高周波電源は、高速水流下でも安定したプラズマ発生を可能にし、廃液処理などの大量処理設備のコストダウンに寄与します。また、絶縁試験器は、高速インバータ駆動モータにおける高電圧発生問題に対応し、産業用や車載モータの信頼性向上に貢献しています。同社は、NEDOの「新エネルギー等のシーズ発掘・事業化に向けた技術研究開発事業」や市村清新技術財団の新技術開発助成に採択されるなど、その革新性が高く評価されており、朝日新聞や日経クロステック、毎日放送といった主要メディアでもPFAS分解技術が紹介されるなど、社会的な注目を集めています。高電圧特殊電源のリーディングカンパニーとして、産業の発展と環境問題解決に貢献し、未来の豊かな社会づくりを目指すビジネスモデルを展開しています。