製造業（機械・設備）法人向け（製造業・教育・研修）行政向け
- 法人番号
- 3050001002979
- 所在地
- 茨城県 水戸市 飯島町１２８５番地５
- 設立
- 従業員
- 16名
- 企業スコア
- 65.3 / 100.0
代表取締役
吉田壽治
確認日: 2026年4月17日
株式会社真空デバイスは、真空技術を応用した装置の製造販売を主要事業としています。同社は、スパッタ装置、蒸着装置、プラズマ照射装置、CVD装置、および各種真空コンポーネントを製造し、特に電子顕微鏡試料作成用の前処理装置や研究開発機関向けの小型真空装置を幅広くラインナップしています。半導体、バイオ、環境、ナノテクといった最先端技術研究開発分野で活躍する研究者や企業に対し、新技術開発に必要な実験器具・装置、そして電子顕微鏡試料作製に関わる装置の開発、製品化、販売、サービスを一貫して提供しています。 主要製品としては、金、白金、オスミウムなどの貴金属やタングステン、クロム、銅、モリブデン、ニッケル、タンタル、チタン、アルミニウム、ITOといった多種多様な金属の成膜が可能なマグネトロンスパッタ装置（MSP-mini, MSP-1S, MSP-20UM/MT/TK, MSP-8in/12in, MSP-40T）や、絶縁膜・酸化膜の成膜に対応するRFスパッタ装置（VRF-100S）があります。また、高倍率観察に不可欠なオスミウムコーター（HPC-20）、高分子材料の内部構造観察に用いる真空電子染色装置（ES-200）、X線分析用カーボン膜作成のカーボンコーター（VC-300）、親水処理・カーボンコーター・イオンスパッタ機能を一体化したマルチ成膜装置（VES-10）も提供しています。高真空蒸着装置（VE-2013/2050/2040）や、試料のコンタミネーションを抑えるSEM・TEM試料保管装置（SVS-100T, TVS-40T）、親水化処理やクリーニング、エッチングを行うプラズマ処理装置（PIB-10/20, PCU-40）、含水試料の乾燥に用いる凍結乾燥装置（VFD-21S/30）や試料急速凍結装置（VFZ-100）も手掛けています。 さらに、RFイオンスパッタ源、Kセル加熱コンポーネント、ビューポートシャッター、基板交換ハッチ、ICFフランジ直線移動機構といった特注品用真空コンポーネントの開発・製造も行い、顧客の多様なニーズに応えています。同社は、装置の販売だけでなく、購入前のテストコーティング、依頼サンプルによるテスト成膜、少量の受託成膜、デモンストレーション、そして医学生物学分野の試料作成における専門家による技術指導といった受託サービスも展開しており、研究者の「名脇役」として、早く、廉く、そして使いやすい機器とサポートを提供することで、最先端の研究開発を強力に支援しています。特に、ナノメートルレベルの成膜を専門とし、高倍率電子顕微鏡観察における試料の前処理技術に強みを持っています。
従業員数（被保険者）
16人 · 2026年5月
30期分（2023/12〜2026/05）
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