製造業（半導体・電子部品）法人向け（製造業）
- 法人番号
- 1040001034298
- 所在地
- 千葉県 船橋市 北本町１丁目１７番２５号ベンチャープラザ船橋２１５号室
- 設立
- 従業員
- 5名
- 決算月
- 12月
- 企業スコア
- 66.0 / 100.0
代表取締役
川浦廣
確認日: 2017年12月31日
株式会社シー・ヴィ・リサーチは、半導体製造装置の開発、製造、販売を主軸に、半導体業界のお客様の多様なシーズ（種）を具現化する技術を提供しています。同社は、大口径ウェハーに対応したプラットフォームから、高密度で均一なプラズマ処理が可能な装置まで、幅広い半導体製造装置をラインナップしています。具体的には、φ12インチ（300mm）ウェハー対応のCVR-9300 Series、φ5～φ8インチウェハー対応のCVR-9000 Series、そしてφ6～φ12インチウェハーや152mm角マスクに対応し、ロードロックを持たないシンプルな構造で高いコストパフォーマンスを実現するCVR-3000 SR、さらにレジストアッシングからウェットRCA洗浄、裏面洗浄まで可能なDry & WetコンビネーションプラットフォームのCVR-3000 WDなどを提供しています。 同社は装置販売だけでなく、表面処理サービスと成膜サービスも展開しており、φ6～φ8インチウェハー（一部φ300mm対応、φ8インチSiトレイ使用によりチップ処理も可能）を対象に、酸化、窒化、Ashingといった表面処理や、TaO、AlO、SiO、SiNなどの膜種を1nmから1000nm程度の膜厚で成膜するサービスを提供しています。これらのサービスは、PE-MOCVDやPE-CVD、高密度プラズマ処理といった先進技術を駆使し、キャパシター膜、耐薬液性膜、ゲート膜、水素ブロック膜、絶縁層膜、水ブロック膜、ストレスライナーなど、多岐にわたる用途に対応しています。特に、成膜と酸化を繰り返し実施するLLD（Layer-by-Layer Deposition）技術により、所望の膜質・膜厚を実現する強みを持っています。 同社の研究開発施設である森ケ崎事業所には、クラス100レベルのクリーンルームが整備されており、45nmノードレベルのデモが可能な環境で、P-SiO、P-SiN、TaO、Oxidation、Nitridation、ALO、Ashingといったプロセス開発を加速しています。これにより、半導体デバイスの微細化・高性能化に貢献し、顧客の「シーズ（種）」を具現化するソリューションを提供しています。過去には「ものづくり補助金」や「ひまわりベンチャー育成基金」の助成金採択実績もあり、技術開発力と事業性が評価されています。対象顧客は半導体製造に関わる企業や研究機関であり、最先端の装置とプロセス技術で、半導体産業の発展を支えるビジネスモデルを展開しています。
純利益
66万円
総資産
3.2億円
ROE_単体
0.47% · 2017年12月
1期分（2017/12〜2017/12）
ROA_単体
0.2% · 2017年12月
1期分（2017/12〜2017/12）
自己資本比率_単体
43.29% · 2017年12月
1期分（2017/12〜2017/12）
従業員数（被保険者）
5人 · 2026年5月
29期分（2023/12〜2026/05）
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