テクセンドフォトマスク株式会社

製造業半導体・電子部品法人向け(製造業)
法人番号
1010401164466
所在地
東京都 港区 東新橋1丁目5番2号
設立
従業員
528名
決算月
3
企業スコア
86.2 / 100.0

知的財産権

商標4特許・実用新案76
特許

反射型フォトマスク及び反射型フォトマスクの製造方法

出願日: · 出願番号: 2025021457

J-PlatPat →
特許

反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク

出願日: · 出願番号: 2024231803

J-PlatPat →
商標

TPC

出願日: · 出願番号: 2024115223

J-PlatPat →
特許

反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク及び反射型フォトマスクの製造方法

出願日: · 出願番号: 2024158334

J-PlatPat →
特許

反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク及び反射型フォトマスクの製造方法

出願日: · 出願番号: 2024153115

J-PlatPat →

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