製造業（半導体・電子部品）法人向け（製造業）
- 法人番号
- 5080101002461
- 所在地
- 神奈川県 横浜市磯子区 新杉田町８番１
- 設立
- 従業員
- 1,047名
- 決算月
- 3月
- 企業スコア
- 90.8 / 100.0
代表取締役社長
杉本茂樹
確認日: 2020年3月31日
株式会社ニューフレアテクノロジーは、半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業とする企業です。同社は、半導体デバイスの性能と生産性向上に不可欠な微細化技術を支える「電子ビームマスク描画装置」、フォトマスクの欠陥を高速で検査する「マスク検査装置」、そしてシリコンウェーハやSiCウェーハ上に単結晶薄膜を成長させる「エピタキシャル成長装置」の3つの主力製品を中心に事業を展開しています。 電子ビームマスク描画装置は、LSI製造工程における回路原版であるフォトマスクに、電子ビームによる描画制御技術を核として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術などの高度な要素技術を統合し、高精度な回路パターンを形成します。同社の電子ビームマスク描画装置は、最先端のシングルビームマスク描画装置市場においてほぼ100%の世界シェアを誇り、30年以上の開発歴史を通じて微細加工技術をリードしてきました。次世代機としてマルチビームマスク描画装置の開発も進めています。 マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画されたフォトマスクの欠陥を高速に検出し、LSIの歩留まり向上に貢献します。高度な光学技術、計測技術、画像処理アルゴリズムを駆使し、199nmのレーザー光源と透過光・反射光の同時照射により高感度かつ短時間での検査を実現しています。 エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコアとし、LEDやハイブリッド車・電気自動車用のパワーデバイス製造に不可欠なシリコンやGaN、SiCなどの単結晶薄膜をウェーハ上に均一かつ高速に成長させます。同社は1980年代からこの分野で実績を積み、GaN-on-Si用MOCVD装置やSiCデバイス向け成膜装置を製品化しています。 同社は、世界トップレベルの微細加工技術と高い研究開発投資を強みとし、経済産業省の「新グローバルニッチトップ企業100選」にも選定されています。半導体メーカーとの連携を深め、DFM（Design for Manufacturing）の考え方に基づき、設計から製造までを統合した最適化ソリューションを提供することで、半導体産業と社会、人類の発展に寄与しています。顧客は国内外の半導体メーカーであり、グローバルに事業を展開しています。
売上高
779億円
純利益
106億円
総資産
1,521億円
自己資本比率_単体
4.26% · 2025年3月
10期分（2016/03〜2025/03）
BPS
6,029円 · 2019年3月
4期分（2016/03〜2019/03）
EPS
686円 · 2019年3月
4期分（2016/03〜2019/03）
発行済株式総数
1,200万株 · 2019年3月
4期分（2016/03〜2019/03）
ROE_連結
11.49% · 2019年3月
4期分（2016/03〜2019/03）
ROA_連結
8.27% · 2019年3月
4期分（2016/03〜2019/03）
ROA_単体
6.97% · 2025年3月
10期分（2016/03〜2025/03）
自己資本比率_連結
72.03
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接続方法を見る4期分（2016/03〜2019/03）
ROE_単体
163.44% · 2025年3月
10期分（2016/03〜2025/03）
配当性向
21.9% · 2019年3月
1期分（2019/03〜2019/03）
平均勤続年数
10年 · 2019年3月
1期分（2019/03〜2019/03）
従業員数
543人 · 2019年3月
4期分（2016/03〜2019/03）
女性役員比率
0% · 2019年3月
1期分（2019/03〜2019/03）
設備投資額
14.2億円 · 2019年3月
1期分（2019/03〜2019/03）
1株当たり配当金
150円 · 2019年3月
1期分（2019/03〜2019/03）
平均年齢
43歳 · 2019年3月
1期分（2019/03〜2019/03）
PER
8倍 · 2019年3月
1期分（2019/03〜2019/03）
男性役員数
13人 · 2019年3月
1期分（2019/03〜2019/03）
女性役員数
0人 · 2019年3月
1期分（2019/03〜2019/03）
平均年間給与
832万円 · 2019年3月
1期分（2019/03〜2019/03）
従業員数（被保険者）
1,047人 · 2026年5月
30期分（2023/12〜2026/05）
