製造業（半導体・電子部品）法人向け（製造業・エネルギー・環境）
- 法人番号
- 4010001198944
- 所在地
- 東京都 千代田区 麹町３丁目５番地４麹町インテリジェントビルＢ－１
- 設立
- 従業員
- 1名
- 企業スコア
- 46.7 / 100.0
株式会社アビット・テクノロジーズは、独自の高密度プラズマ発生技術と、多くの産業分野で培われた知見を融合させ、半導体、環境・エネルギーといった幅広い分野に革新的なイノベーションをもたらすことを使命として活動しています。同社の主要事業は、大口径対応の高密度プラズマ技術の開発、および半導体デバイス向けの低温形成膜（ゲート絶縁膜、層間絶縁膜、電荷保持膜）のプロセス開発と装置開発です。特に、パワー半導体向けゲート絶縁膜形成用高密度ラジカル源の大面積化技術や、SiCパワー半導体向け層間絶縁膜における低温緻密化プロセスの開発において実績を重ねています。また、CO2、水、難分解性物質の分解を可能にするプラズマ分解技術も提供しており、環境問題解決にも貢献しています。 同社の技術的な強みは、プラズマ源のマイクロ波が互いに干渉しない特性を活かし、単一装置に多数のプラズマ源を設置することで、小型装置でありながら大口径処理や大量処理に容易に対応できる点にあります。これにより、酸化膜形成、熱酸化膜からの脱水素、レジストアッシングといった精密なプラズマ処理を効率的に実現しています。ビジネスモデルとしては、プラズマ処理の受託、共同開発や受託開発、さらには装置の開発・販売・レンタル、技術コンサルティング、ライセンス供与など多角的に展開しています。顧客層は半導体メーカーや研究機関、環境・エネルギー関連企業が中心であり、大学との共同研究を通じて、プラズマCVDを用いたMOS構造の形成技術や水素ラジカルによるシリコン窒化膜中水素量制御、高品質Al2O3ゲート/Ge基板構造の形成など、最先端の研究開発にも積極的に取り組むことで、技術革新を推進しています。
従業員数（被保険者）
1人 · 2026年5月
30期分（2023/12〜2026/05）
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