株式会社ハルナ

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東京都新宿区に所在する、1955年設立・従業員4名の製造業（化学・素材）企業。

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知的財産権

特許・実用新案7

特許

半導体ウエハ洗浄装置

出願日: 1997年9月8日 · 出願番号: 1997242984

特許

流体圧駆動ポンプ

出願日: 1997年7月4日 · 出願番号: 1997193381

特許

半導体ウエハの洗浄処理方法及び装置

出願日: 1997年6月6日 · 出願番号: 1997163460

特許

水スクラバ式廃ガス処理装置

出願日: 1996年1月22日 · 出願番号: 1996027313

特許

半導体用純水加熱装置

出願日: 1992年2月12日 · 出願番号: 1992057258

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