製造業（機械・設備）法人向け（製造業・教育・研修）行政向け
- 法人番号
- 8021001045041
- 所在地
- 神奈川県 綾瀬市 吉岡東２丁目３番２７号
- 設立
- 従業員
- 15名
- 企業スコア
- 37.4 / 100.0
代表取締役
木下時重
確認日: 2026年4月14日
株式会社日本シード研究所は、先端技術を駆使したカスタム真空技術のパイオニアとして、真空装置の設計、製造、販売、移設、中古機器販売を主要事業として展開しています。同社は、研究開発向けオーダーメイドの真空装置・機器の製作を得意とし、顧客の多様なニーズに応えるエンジニアリング企業です。 主要な製品群としては、積層膜や混合膜に対応する「複合成膜装置」（枚葉式、インライン式）、多層膜や単結晶膜の作製が可能な「蒸着成膜装置」（多元蒸着、抵抗加熱式、超高真空）、超伝導薄膜や化合物膜の連続成膜に特化した「スパッタ成膜装置」（ロードロック式、超高真空、縦型、インライン式超高真空）を提供しています。これらの成膜装置は、スパッタ、蒸着、イオンビームスパッタ(IBS)など多様な成膜方式に対応し、半導体、FPD、超伝導素子、原子間力顕微鏡(AFM)・走査型プローブ顕微鏡(SPM)測定用基板、自己組織化単分子膜(SAM)成長基板などの幅広い分野で活用されています。 また、「CVD装置」（熱CVD、プラズマCVD、金属熱CVD）では、化合物半導体のエピタキシャル成長など、純度を重視するプロセスに対応。さらに、「真空熱処理装置」（高温真空加熱装置、真空ベーキング装置）は、最高2400℃の高温処理から小部品の脱ガス処理まで、清浄な雰囲気での熱処理を実現します。「環境試験装置」（低温真空、極低温、小型真空、真空環境試験装置）は、宇宙開発や素材研究開発向けに、高真空・極低温などの特殊環境下での試験を可能にします。 同社は、これらの装置だけでなく、ターボ分子ポンプやスクロールポンプなどを組み合わせた「排気ユニット」、そして可搬型デシケータや特型トランスファーロッドなどの「真空機器コンポーネント」、さらには電子ビーム蒸着用ルツボや成膜用基板ホルダといった「加工部品」の設計・製造・販売も手掛けています。 サービス面では、他社製品を含む装置の改造、修理、オーバーホール、フロア間や別棟への装置移設、部品製作から組立・検査までをカバーする受託製造を提供。特に受託製造では、半導体向け装置メーカーやFPD装置メーカーへの実績を持ち、クラス6・7のクリーンルーム設備を活用しています。さらに、環境に配慮した炭化水素系洗浄剤を用いた「表面洗浄（脱脂洗浄）」や、オイルフリー排気系と質量分析計による残留ガス分析で高品質な「表面洗浄（真空脱ガス処理）」も行い、清浄な真空環境の実現を支援しています。 同社の強みは、顧客の要望に応じたオーダーメイドの設計・製造能力と、長年の経験に裏打ちされた高度な真空技術です。核融合実験における中性粒子分析器の駆動装置や、大型放射光施設、大型加速器施設など、日本の最先端技術の研究設備にも同社製品が採用されており、その技術力と信頼性が高く評価されています。
従業員数（被保険者）
15人 · 2026年5月
30期分（2023/12〜2026/05）
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