製造業（半導体・電子部品）法人向け（製造業・IT・ソフトウェア）
- 法人番号
- 5030001077864
- 所在地
- 埼玉県 川口市 並木２丁目６番６号
- 設立
- 従業員
- 42名
- 決算月
- 3月
- 企業スコア
- 76.7 / 100.0
代表取締役
南洋一
確認日: 2025年3月31日
リソテックジャパン株式会社は、1993年の設立以来、リソグラフィのスペシャリストとして微細加工プロセス用評価・製造装置の開発、製造、販売、輸出入、保守サービスを一貫して提供しています。同社の主要事業は多岐にわたり、半導体や液晶をはじめとする電子技術分野の技術革新を支援しています。具体的には、研究開発から生産用途まで対応する自動・マニュアルのレジスト塗布・現像・ベーク装置「LITHOTRACシリーズ」や「Litho Spin Cupシリーズ」、疎水化表面処理を行うHMDSベーク装置「APPSシリーズ」などを提供しています。これらの装置は、2インチ以下の小片基板から300mmウェーハまで、またg線/i線レジスト、ポリイミド、EBレジスト、EUVレジスト、ArF/KrFレジストといった多様な材料に対応し、アルカリ現像液や有機現像液によるパドル現像、スプレー現像が可能です。また、ミニマルファブ技術研究組合に参加し、0.5インチウェーハに対応するミニマルコータ・デベロッパの開発も行っています。 また、フォトレジストの現像特性解析に不可欠な現像速度解析装置「RDAシリーズ」や、ブロード光からEUV露光まで対応するフォトプロセス解析露光装置、レジスト評価ツールなどのレジスト評価システムも開発・提供しています。特に「RDAシリーズ」は、高Rmaxレジスト（ArFレジストなど）やQCM法による膨潤挙動解析にも対応し、リソグラフィ・シミュレータに必要なレジスト・モデリング・パラメータを正確に決定できます。露光装置のフォーカス決定やレンズ系最適化に貢献するBenchmark Technologies社製の半導体露光装置用テストレティクル、特にIBMの特許出願中技術を利用した位相シフトフォーカスモニタレチクルも取り扱っています。 さらに、低コストで高解像性を実現するナノインプリント装置「LTNIPシリーズ」や、リソグラフィプロセスの最適化を支援するKLA-Tencor社製の光リソグラフィ・シミュレータ「PROLITH」、CD解析ソフトウェア「ProDATA」、CD-SEM画像からのラフネス測定/解析ソフトウェア「MetroLER」といったシミュレータも提供しています。膜厚測定装置としては、Foothill社製の光干渉式膜厚測定装置やULVAC社製の分光エリプソメータ、シリコンウェーハ厚さ測定装置をラインナップ。最先端技術に対応するため、Energetiq Technology社製のEUV光源や高輝度・広帯域波長LDLS白色光源も提供しています。 長年培ったレジスト評価技術を活かし、レジスト露光解析、現像溶解速度測定、感光性材料の性能評価や基礎解析などの受託測定・受託研究も手掛けており、お客様の多様なニーズに応える包括的なソリューションを提供しています。同社は、半導体デバイスメーカー、製造装置メーカー、材料メーカー、基板メーカー、マスクメーカー、研究機関などを主要顧客とし、国内外の微細加工技術の発展に貢献しています。
純利益
3.3億円
総資産
27億円
ROE_単体
42.94% · 2025年3月
4期分（2022/03〜2025/03）
自己資本比率_単体
28.04% · 2025年3月
4期分（2022/03〜2025/03）
ROA_単体
12.04% · 2025年3月
4期分（2022/03〜2025/03）
従業員数（被保険者）
42人 · 2026年5月
25期分（2024/03〜2026/05）
このデータをAIで活用
Claude / ChatGPT / Cursor などの MCP 対応クライアントから、リソテックジャパン株式会社の決算公告・登記履歴・役員・関係企業・知財・政府調達などの構造化データを直接取得できます。無料 20 クレジット/月で利用可能、9 種類のツールを提供。
接続方法を見る
