製造業（半導体・電子部品）法人向け（製造業・IT・ソフトウェア）
- 法人番号
- 8120001153298
- 所在地
- 大阪府 枚方市 津田山手２丁目８番１号
- 設立
- 従業員
- 50名
- 決算月
- 8月
- 企業スコア
- 73.7 / 100.0
代表取締役
石垣祐紀
確認日: 2025年8月31日
株式会社イオンテクノセンターは、半導体産業を中心に、イオン注入サービス、分析・評価・試験サービス、半導体プロセス・研究開発、およびヒューマンリソースソリューション（ERM事業部）の4つの主要事業を展開しています。同社のイオン注入サービスは、イオン化した物質を固体に注入し特性を変化させる加工方法であり、半導体製造におけるドーピングプロセスに不可欠です。60種類以上のイオン種に対応し、小片から12インチまでの多様な試料サイズ、5keVから8MeVまでの幅広い加速エネルギー、室温から600℃までの高温イオン注入技術を提供することで、注入ダメージの緩和に貢献しています。さらに、最大1800℃の高温高速アニールや、アニール時の表面荒れを防ぐカーボンキャップ膜の成膜技術も提供し、研究開発から少量量産まで幅広く対応しています。 分析・評価・試験サービスでは、半導体・エレクトロニクス関連材料をはじめとする各種材料の研究開発や品質管理を、物理分析や多様な評価技術で支援しています。材料解析、故障解析、信頼性評価試験を包括的に提供し、オンサイト分析も可能です。特に、車載用電子部品の信頼性評価や、密閉パッケージ内の水分・残留ガス分析、微小リーク試験にも対応しています。また、Integrated Service Technology Inc.（iST）の日本総代理店として、分析・試験サービスの強化を図っています。 半導体プロセス・研究開発事業では、基礎研究から新規材料・デバイス開発、シミュレーション開発までを支援し、顧客設計デバイスの一貫試作や工程試作のコーディネート、評価を実施しています。イオン注入を中心としたプロセス技術に加え、成膜や高温熱処理技術も有し、SiC、GaN、Ga2O3などの新規材料にも対応。パワー半導体向けの裏面加工（研削、エッチング、イオン注入、活性化アニール、裏面電極形成）の一貫受託も強みです。 ヒューマンリソースソリューションを提供するERM事業部では、半導体業界に特化したBPOサービス、人材派遣、職業紹介サービスを展開。技術力を持つ人材の派遣、人材教育、マニュアル再構築、装置・機器の活用支援、インハウスBPO支援を通じて、顧客企業の事業最適化と社会課題解決に貢献しています。同社は長年の実績と経験、そして国内外の幅広いネットワークを活かし、顧客の多様なニーズに柔軟かつスピーディーに対応することで、高い信頼を得ています。2024年には韓国に子会社ITC KOREAを設立し、分析サービスを開始するなど、グローバルな事業展開も進めています。
純利益
597万円
総資産
7.0億円
紹介就職者数
0人 · 2025年3月
6期分（2020/03〜2025/03）
紹介離職者数
0人 · 2025年3月
6期分（2020/03〜2025/03）
ROA_単体
0.86% · 2025年8月
5期分（2021/08〜2025/08）
自己資本比率_単体
46.76% · 2025年8月
5期分（2021/08〜2025/08）
ROE_単体
1.83% · 2025年8月
5期分（2021/08〜2025/08）
従業員数（被保険者）
50人 · 2026年5月
29期分（2023/12〜2026/05）
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