知的財産権
特許・実用新案74
特許
フォトレジスト用の反射防止膜組成物
出願日: · 出願番号: 2013080529
特許
フォトレジストパターンを被覆するための組成物
出願日: · 出願番号: 2012068775
特許
ケイ素含有微細パターン形成用組成物
出願日: · 出願番号: 2012062646
特許
光結像性ポジ型底面反射防止膜
出願日: · 出願番号: 2012003737
特許
ポジ型感光性シロキサン組成物
出願日: · 出願番号: 2012530648
フォトレジスト用の反射防止膜組成物
出願日: · 出願番号: 2013080529
フォトレジストパターンを被覆するための組成物
出願日: · 出願番号: 2012068775
ケイ素含有微細パターン形成用組成物
出願日: · 出願番号: 2012062646
光結像性ポジ型底面反射防止膜
出願日: · 出願番号: 2012003737
ポジ型感光性シロキサン組成物
出願日: · 出願番号: 2012530648