- 法人番号
- 7020001113222
- 所在地
- 東京都 世田谷区 用賀1丁目13番23-105号
- 設立
- 従業員
- 1名
- 企業スコア
- 39.0 / 100.0
代表取締役社長
顧暁冬
確認日: 2026年4月16日
アンビション・フォトニクス株式会社は、東京工業大学におけるフォトニクス関連の研究成果を社会に提供することを目的に設立された東工大発ベンチャーです。同社は、半導体素子や集積システムの設計、製造、評価において高度な専門知識と技術を有しており、革新的な技術を幅広い製品分野へ提供することを目指しています。主要事業として、高い専門性を活かした技術コンサルティング、委託研究、そして自社製品の販売を展開しています。 同社の技術的強みは、東京工業大学で発明された面発光レーザー(VCSEL)とその応用技術にあります。VCSELは、微小サイズ、低消費電力、二次元集積、そして低製造コストといった特長を持ち、同社はこれらを基盤として、より高性能なVCSELおよび関連機器の研究開発に注力しています。特に、光を制御する優れた現象であるスローライト技術をブラッグ反射鏡導波路に応用し、世界最高解像度を誇る非機械式ビーム偏向器を開発。1000点以上の解像点数を実現し、200チャネル波長分波器や182ポート波長選択スイッチ、一万点を超える解像度の二次元ビーム偏向器など、革新的なデバイスを提案しています。これらの研究室レベルの成果を市販化することが同社の重要な目標です。 さらに、スローライト導波路を用いた光増幅技術では、500μm程度の素子で30dB以上の増幅を達成し、ビーム偏向、MEMS、LIDAR、高出力波長可変面発光レーザなどへの応用を可能にしています。面発光レーザーとスローライト導波路の横方向集積による結合共振器技術では、トランスミッターのバンド幅拡大に注力し、30GHzを超える周波数応答を実現。微小電気機械システム(MEMS)技術をVCSELと組み合わせることで、数十nmの帯域で波長を変化させることが可能な波長可変VCSELを開発し、光通信、生体医療画像、ガスセンシングといった多様な産業応用を目指しています。また、温調フリー化により短距離通信システムや大規模データセンターのモジュールコスト削減にも貢献します。 大容量光通信ネットワークの効率的運用に不可欠な波長選択スイッチ(WSS)においても、ブラッグ反射鏡導波路アレーを導入することで、従来の技術では困難であった100ポートを超える大規模化と高密度化を実現し、モジュールサイズの小型化にも成功しています。これらの先進技術を通じて、同社は次世代の光通信、センシング、医療分野など、幅広い産業にブレークスルーソリューションを提供し、社会の発展に貢献することを目指しています。
従業員数(被保険者)
1人 · 2026年5月
30期分(2023/12〜2026/05)
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