ＣＭＣマテリアルズ株式会社

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知的財産権

特許・実用新案5

特許

化学機械研磨組成物、リンス組成物、化学機械研磨方法及びリンス方法

出願日: 2018年7月13日 · 出願番号: 2018133454

特許

スラリー組成物、リンス組成物、基板研磨方法およびリンス方法

出願日: 2014年9月5日 · 出願番号: 2014181015

特許

スラリー組成物および基板研磨方法

出願日: 2014年3月17日 · 出願番号: 2014053262

特許

スラリー組成物および基板研磨方法

出願日: 2013年4月25日 · 出願番号: 2013092253

特許

ＣＭＰスラリー再生装置およびＣＭＰスラリー再生方法

出願日: 2012年4月12日 · 出願番号: 2012090942

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