製造業（精密機器・光学）法人向け（製造業）
- 法人番号
- 5010001213578
- 所在地
- 東京都 中央区 銀座１丁目２２番１１号
- 設立
- 決算月
- 10月
- 企業スコア
- 40.0 / 100.0
代表
八井崇
確認日: 2026年4月16日
株式会社ナノフォトニックテクノロジーズは、東京大学で培われた最先端のナノフォトニクス技術を基盤に、サブナノメートルレベルの精密加工を実現する企業です。前身である特定非営利活動法人ナノフォトニクス工学推進機構の時代から、ナノフォトニクス技術の実用化に取り組んでおり、特に熱アシストハードディスク用のナノヒーター開発では、文部科学省の令和2年度秀でた利用成果最優秀賞を受賞する実績を持ちます。同社の主要事業は、ナノ寸法に局在する近接場光を利用した画期的な表面研磨技術「近接場光研磨」です。この技術は、従来の機械研磨とは異なり、非接触で加工を行うため、被研磨物質への損傷を完全に排除し、原子オーダーでの極めて高い表面平滑化を可能にします。さらに、非接触である特性から、複雑な立体構造の側面や内部といった、機械研磨では到達困難な箇所の平滑化も実現します。 同社の研磨技術は、金属（金型、電極）、半導体（基板、発光ダイオード、太陽電池、MEMS）、光学素子（ミラー、レンズ、回折格子、水晶、ダイヤモンド）、記録メディア（ハードディスク、光ディスク）など、多岐にわたる産業分野の素材に適用可能です。これまでに、NEDOの「エネルギー使用合理化技術戦略的開発」や「省エネルギー革新技術開発事業」を通じて得られた成果を基に、経済産業省の補助金事業により研磨装置のプロト機を開発し、実用化研究を推進しています。また、基板の平坦化方法や近接場光を用いたエッチング方法など、複数の特許を保有しており、その技術的優位性を確立しています。取締役の八井崇氏は、ナノ領域の光を用いた新奇光反応・機能の発見とその産業応用への貢献が評価され、2024年度慶應義塾大学矢上賞を受賞するなど、同社の技術力と研究開発への貢献は高く評価されています。同社は、これらの先進技術と実績を背景に、質の高い製品とサービスを世界中のお客様に提供し、産業界の発展に貢献することを目指しています。
純利益
-200万円
総資産
101万円
ROA_単体
-198.6% · 2025年10月
2期分（2024/10〜2025/10）
ROE_単体
—% · 2025年10月
2期分（2024/10〜2025/10）
自己資本比率_単体
-108.71% · 2025年10月
2期分（2024/10〜2025/10）
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