製造業（電気・電子機器）法人向け（製造業・教育・研修）
- 法人番号
- 1120901014011
- 所在地
- 大阪府 吹田市 芳野町５番１２号
- 従業員
- 8名
- 決算月
- 11月
- 企業スコア
- 50.7 / 100.0
代表取締役社長
石倉康哉
確認日: 2026年4月16日
ＲＦプラズマシステム株式会社は、25年以上にわたりプラズマ発生用高周波電源の開発・製造に従事してきた専門家集団によって設立された、高周波技術に特化した企業です。同社の主要事業は、高周波電源装置のレンタルサービスと、高周波技術に関するコンサルティングサービスです。特に、高周波電源は一般的に受注生産が多く、購入前に性能を十分に試す機会が少ないという業界課題に対し、同社は高周波電源のレンタルを積極的に展開することで、顧客が安心して製品を選定できる機会を提供しています。 レンタルサービスでは、プラズマ高周波電源や整合器など、幅広い出力と周波数帯に対応する多様な製品を取り扱っており、例えば家庭用電源で利用可能な軽量コンパクトなモデルから、600Wから3kWの出力をカバーしつつ設置場所の制約に対応する同サイズ設計の製品、さらにはプラズマ負荷に対して安定した電力供給が可能な高出力モデルまで、顧客の具体的なニーズに応じた選択肢を提供しています。大学等の研究機関向けレンタルにも注力し、予算面や技術面での課題を抱える研究者をメーカーと一体となってサポートする体制を構築しています。 コンサルティングサービスにおいては、高周波技術に精通した専門知識を活かし、顧客が直面する様々な技術的課題の解決を支援しています。具体的には、独自仕様の高周波電源や付属製品の開発支援、既存設備の置き換えや拡張、設備の能力アップや最適化、プラズマ放電の安定化・均一化、ノイズ対策、立ち上がりスピードの均一化、マッチング調整、アースに関する助言、ケーブル関連の問題解決、多様な周波数での実験対応、さらには複数周波数の同時印加といった高度な要望にも応えています。同社の高周波電源は、半導体製造装置、液晶製造装置、太陽電池製造装置、MEMS製造装置、DLC製造装置、プラズマ洗浄装置といったハイテク産業の基盤を支える重要な役割を担っており、これらの産業の発展に貢献することを目指しています。同社は、単に製品を提供するだけでなく、高周波技術の深い知見と長年の経験に基づいた総合的なソリューションを提供することで、顧客の満足度向上と産業全体の進化に寄与しています。
純利益
1,668万円
総資産
3.7億円
ROE_単体
7.52% · 2025年11月
4期分（2022/11〜2025/11）
ROA_単体
4.46% · 2025年11月
4期分（2022/11〜2025/11）
自己資本比率_単体
59.39% · 2025年11月
4期分（2022/11〜2025/11）
従業員数（被保険者）
8人 · 2026年5月
30期分（2023/12〜2026/05）
このデータをAIで活用
Claude / ChatGPT / Cursor などの MCP 対応クライアントから、ＲＦプラズマシステム株式会社の決算公告・登記履歴・役員・関係企業・知財・政府調達などの構造化データを直接取得できます。無料 20 クレジット/月で利用可能、9 種類のツールを提供。
接続方法を見る