製造業（半導体・電子部品）法人向け（製造業）
- 法人番号
- 3010001020051
- 所在地
- 東京都 中央区 京橋１丁目１７番１０号
- 設立
- 決算月
- 3月
- 企業スコア
- 62.0 / 100.0
知的財産権
商標1特許・実用新案11
特許
グラスファイバーの表面処理方法、および該方法により表面修飾されたグラスファイバー並びにそれを用いたプリント配線基板
出願日: · 出願番号: 2012209013
特許
窒化物半導体形成用基板及び窒化物半導体
出願日: · 出願番号: 2010210417
商標
ＳＴウェーハ
出願日: · 出願番号: 2010054770
特許
窒化物半導体用形成用基板およびその製造方法
出願日: · 出願番号: 2009072974
特許
ダイヤモンド薄膜形成用基板、該基板を用いてなる半導体基板及びその製造方法
出願日: · 出願番号: 2008082297
