東京応化工業株式会社

製造業半導体・電子部品法人向け(製造業)
法人番号
3020001069823
所在地
神奈川県 川崎市中原区 中丸子150番地
設立
従業員
1,777名
決算月
12
企業スコア
100.0 / 100.0

知的財産権

商標98特許・実用新案999+意匠20
特許

高分子化合物

出願日: · 出願番号: 2025247750

J-PlatPat →
特許

積層体

出願日: · 出願番号: 2025187366

J-PlatPat →
特許

ドーパント型選択性を有するシリコンエッチング

出願日: · 出願番号: 2025167215

J-PlatPat →
特許

化学増幅型ポジ型感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法

出願日: · 出願番号: 2025130988

J-PlatPat →
特許

半導体デバイス用処理液

出願日: · 出願番号: 2025129511

J-PlatPat →

4,481件中 5 件を表示

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