ホシケミカルズ株式会社

製造業（日用品・化粧品）法人向け
法人番号
9010001029087
所在地
東京都 千代田区 神田東松下町３１番地２
設立
従業員
54名
企業スコア
68.6 / 100.0

知的財産権

商標33特許・実用新案8
商標

スイソリカバルーン

出願日: · 出願番号: 2026026246

J-PlatPat →
商標

リカバルーン

出願日: · 出願番号: 2026026245

J-PlatPat →
商標

純水素エアバッグ

出願日: · 出願番号: 2026026244

J-PlatPat →
商標

生水素エアバッグ

出願日: · 出願番号: 2026026243

J-PlatPat →
特許

線維芽細胞増殖促進剤

出願日: · 出願番号: 2023111825

J-PlatPat →

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