日本エー・エス・エム株式会社（ASM）は、世界の主要な半導体メーカー向けにウェーハ処理装置を提供する企業です。同社は、半導体デバイス（集積回路）製造に必要な先進技術を提供するため、薄膜成膜装置の設計、製造、販売、サービスを一貫して手掛けています。主要な技術は原子層堆積（ALD）とエピタキシーであり、これらは次世代デバイスへの移行を可能にする上で極めて重要な役割を果たします。特にALDは、微細なレベルで機能し、ハフニウムベースの高誘電率ゲート誘電体材料を用いたデバイスの量産に初めて使用されたPulsar ALDツールなど、3Dデバイスアーキテクチャを実現する革新的な成膜プロセスを市場に投入してきました。エピタキシー技術では、高度に制御されたシリコンベースの結晶膜を成膜し、先進的なトランジスタやメモリデバイス、ウェーハ製造に不可欠です。2022年には、電気自動車市場の急速な拡大に対応するため、炭化ケイ素（SiC）エピタキシー装置の新しい製品ラインを追加し、バッテリー寿命の延長と航続距離の向上に貢献しています。また、誘電体薄膜を比較的低温で成膜するPECVDや、LPCVD、拡散、酸化などの幅広い熱処理プロセスに対応する高生産性ソリューションである縦型炉も提供しています。さらに、グローバルサービス＆スペア事業を通じて、顧客の製造拠点におけるシステムの24時間365日稼働を保証し、エンジニアリング革新による性能向上、改修・アップグレードによる所有コスト削減、技術要件の変化への適応など、成果ベースのサービスを提供しています。同社の強みは、半世紀以上にわたる革新の歴史と、顧客との早期連携による共同R&Dモデル、そして先進ノードにおける強力な地位にあります。AI、クラウドコンピューティング、持続可能なエネルギー、電気自動車、次世代ヘルスケアなど、未来のテクノロジーを支えるマイクロチップの進化を原子レベルで実現し、人々の生活を豊かにすることを使命としています。
従業員数（被保険者）
331人 · 2026年5月
30期分（2023/12〜2026/05）
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