知的財産権
商標2特許・実用新案29
特許
レーザーアブレーションICP分析方法及び分析装置
出願日: · 出願番号: 2025516500
特許
不純物取得システム、品質検査システムおよび液体製造供給システム
出願日: · 出願番号: 2022129978
特許
元素の定量分析方法
出願日: · 出願番号: 2024528086
特許
金属微粒子の分析方法および誘導結合プラズマ質量分析方法
出願日: · 出願番号: 2020508065
特許
基板分析方法および基板分析装置
出願日: · 出願番号: 2018242929
