- 法人番号
- 6010101009033
- 所在地
- 〒105-0012 東京都 港区 芝大門1丁目10番18号
- 設立
- 従業員
- 18名
- 決算月
- 3月
- 企業スコア
- 77.1 / 100.0
- 法人番号
- 6010101009033
- 所在地
- 〒105-0012 東京都 港区 芝大門1丁目10番18号
- 設立
- 従業員
- 18名
- 決算月
- 3月
- 企業スコア
- 77.1 / 100.0
代表取締役
スリーダルマーシープラカッシュ
確認日: 2025年3月31日
アトナープ株式会社は、デジタル分子プロファイリング技術を核に、半導体製造および医薬品製造プロセスにおける精密なリアルタイム分子レベル制御ソリューションを提供する企業です。同社は、革新的な質量分析計プラットフォーム「ASTON」シリーズを展開し、製造現場の「見えない」分子レベルの変化を可視化することで、顧客の生産性向上、品質安定化、コスト削減に貢献しています。 主要製品の一つである「ASTON Impact」は、半導体製造プロセスに特化したIn situ計測技術を提供します。これは、成膜、エッチング、クリーニングといった各プロセスにおいて、微量なガスや物質の変化をリアルタイムで監視・解析し、プロセスの健全性を診断、異常発生時には即座に通知するものです。これにより、原子レベルでの精密な膜厚や組成の把握、エッチング終点の正確な検知、チャンバークリーニングの最適化を実現し、不良発生の根本的な防止と歩留まりの最大化を可能にします。特に、ALD(原子層堆積)やALE(原子層エッチング)のような先端半導体プロセスにおいて、従来の計測技術では困難だった高精度な終点検知や腐食性ガス環境下での堅牢な運用を可能にし、大幅なスループット向上とコスト削減に寄与しています。 もう一つの主要製品「ASTON Lyo」は、医薬品製造における凍結乾燥プロセス向けに開発された残留ガス分析計です。同製品は、新開発のパルスインジェクション機能付きガス導入系により、シリコンオイル汚染による質量分析装置の性能低下を防ぎ、凍結乾燥中のプロセスガスを効率的かつ連続的に高精度で測定することを可能にします。これにより、装置の運用期間を延長し、ダウンタイムを削減しながら、凍結乾燥プロセスの品質向上と生産性向上に貢献します。 同社の強みは、小型で高性能、高感度かつリアルタイム性を有する質量分析プラットフォームと、腐食性ガス環境下でも長寿命を実現する独自のuPlasmaイオン源技術にあります。これらの技術は、半導体製造装置メーカーや製薬業界、さらには将来的な拡大市場としてEVバッテリー製造分野の顧客に対し、データ駆動型の精密なプロセス制御と自動化ソリューションを提供し、国際競争力の確保に貢献することを目指しています。NEDOの「ディープテック・スタートアップ支援事業」に採択されるなど、その技術力は高く評価されており、AIを活用したデータ分析ソフトウェアの開発も加速させています。
純利益
-15億円
総資産
7.3億円
自己資本比率_単体
80.65% · 2025年3月
3期分(2023/03〜2025/03)
ROE_単体
-255.8% · 2025年3月
3期分(2023/03〜2025/03)
ROA_単体
-206.31% · 2025年3月
3期分(2023/03〜2025/03)
従業員数(被保険者)
18人 · 2026年5月
30期分(2023/12〜2026/05)
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