プログレッシオ合同会社

真空用ゲートバルブ登録2010・請求項9項

圧力差によるバルブプレートの変位を防止して、密閉状態を確実に保持すると共にバルブプレートの損傷を抑制する。

プロセス制御システムにおけるシステムとその方法登録2010・請求項5項

代表的な半導体プロセス用機械は、ガス制御、真空制御、温度制御、プラズマエナジー、またその他の制御に必要であり、いくつかの制御装置は全て性能が全て異なる。その結果、制御システムは半導体機械におけるシステムを構築、展開してゆく基盤となる技術の統一性に欠けるという問題点がある。