特許技術分野 / WIPO
半導体分野の特許を持つ企業一覧
半導体素子・製造プロセスに関する特許分野です。
掲載企業数
4,257社
特許件数
302,044件
この技術分野の企業群の特徴
業種分布（大分類）
業種が判明している 3,151社で集計- 製造業81%
- 建設・土木4%
- 教育・研修3%
- 卸売・商社3%
- IT・ソフトウェア3%
- 専門サービス2%
- エネルギー・環境2%
- 公共・行政0.5%
- その他1%
業種（中分類）上位
- 電気・電子機器653社 (20.7%)
- 化学・素材506社 (16.1%)
- 機械・設備467社 (14.8%)
- 半導体・電子部品350社 (11.1%)
- 精密機器・光学144社 (4.6%)
- 鉄鋼・金属141社 (4.5%)
- 自動車・輸送機器132社 (4.2%)
- 学校教育（大学・専門）104社 (3.3%)
- 医薬品・医療機器58社 (1.8%)
- 設備工事49社 (1.6%)
- 総合建設（ゼネコン）35社 (1.1%)
- 電気・電子32社 (1.0%)
従業員規模分布
3,451社従業員数（健康保険等の被保険者数）が判明している3,451社の規模帯分布。
総資産分布
1,701社直近3年以内に決算公告・有報等で総資産が確認できた1,701社が対象（保有企業全体の一部）。
※この分野の権利を保有する企業のうち、法人マスタに一致した3,846社を母集団とした集計です。 外国法人・業種不明の企業は各分布の母数から除外しています。
この技術分野で特許を持つ企業
- 113,586件株式会社半導体エネルギー研究所
神奈川県 · 登録特許の例「イメージセンサ、携帯情報端末及び監視システム」
- 212,782件株式会社東芝
神奈川県 · 登録特許の例「半導体装置」
- 312,264件東京エレクトロン株式会社
東京都 · 登録特許の例「熱処理装置、および熱処理装置の温度調整方法」
- 410,975件日本電気株式会社
東京都 · 登録特許の例「超伝導量子回路」
- 58,836件パナソニックホールディングス株式会社
大阪府 · 登録特許の例「半導体レーザダイオードバー、波長ビーム結合システム、半導体基板の製造方法、半導体レーザダイオードバーの製造方法、及び、半導体基板製造装置」
- 67,927件キヤノン株式会社
東京都 · 登録特許の例「有機発光素子」
- 77,382件セイコーエプソン株式会社
東京都 · 登録特許の例「表示装置、および電子機器」
- 86,671件シャープ株式会社
大阪府 · 登録特許の例「表示制御装置、電子機器、制御プログラムおよび表示制御方法」
- 96,552件三菱電機株式会社
東京都 · 登録特許の例「モジュールの放熱構造」
- 106,509件ソニーグループ株式会社
東京都 · 登録特許の例「電子機器及び多段基板」
- 115,585件株式会社デンソー
愛知県 · 登録特許の例「半導体ウエハの外観検査方法と製造方法」
- 125,534件富士通株式会社
神奈川県 · 登録特許の例「グラフェン膜付き基板の製造方法」
- 135,438件株式会社ディスコ
東京都 · 登録特許の例「画像形成方法及び補正方法」
- 145,100件京セラ株式会社
京都府 · 登録特許の例「圧電素子」
- 154,635件株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス
京都府 · 登録特許の例「基板処理装置および基板処理方法」
- 164,578件ルネサスエレクトロニクス株式会社
東京都 · 登録特許の例「半導体装置およびその製造方法」
- 174,246件株式会社日立製作所
東京都 · 登録特許の例「量子計算機」
- 183,568件富士フイルム株式会社
東京都 · 登録特許の例「処理液」
- 193,432件日亜化学工業株式会社
徳島県 · 登録特許の例「発光素子の製造方法及び発光素子」
- 203,344件富士電機株式会社
神奈川県 · 登録特許の例「窒化物半導体装置及び窒化物半導体装置の製造方法」
- 213,241件株式会社ニコン
東京都 · 登録特許の例「感光性表面処理剤、パターン形成用基板、積層体、トランジスタ、パターン形成方法及びトランジスタの製造方法」
- 223,239件大日本印刷株式会社
東京都 · 登録特許の例「太陽電池モジュール用の封止材シート、太陽電池モジュール及び封止材シートの製造方法」
- 233,215件ローム株式会社
京都府 · 登録特許の例「半導体素子、半導体回路、半導体装置、モータシステム、電気機器、及びプリンタ」
- 242,744件信越化学工業株式会社
東京都 · 登録特許の例「結晶性積層構造体、半導体装置及び結晶性積層構造体の製造方法」
- 252,714件三洋電機株式会社
大阪府 · 登録特許の例「太陽電池モジュール」
- 262,387件株式会社レゾナック
東京都 · 登録特許の例「レーザ溶接方法及び冷却器」
- 272,378件住友電気工業株式会社
大阪府 · 登録特許の例「半導体装置及び半導体装置の製造方法」
- 282,081件ＴＤＫ株式会社
東京都 · 登録特許の例「磁気抵抗効果素子」
- 292,044件トヨタ自動車株式会社
愛知県 · 登録特許の例「半導体装置」
- 302,021件信越半導体株式会社
東京都 · 登録特許の例「エピタキシャルウェーハ」
- 311,991件住友化学株式会社
東京都 · 登録特許の例「結晶基板および結晶基板の製造方法」
- 321,940件株式会社日立ハイテク
東京都 · 登録特許の例「半導体観察システムおよびオーバーレイ計測方法」
- 331,870件ＴＯＰＰＡＮホールディングス株式会社
東京都 · 登録特許の例「配線基板」
- 341,845件富士通セミコンダクター株式会社
神奈川県 · 登録特許の例「強誘電体メモリ装置」
- 351,808件日東電工株式会社
大阪府 · 登録特許の例「部材加工方法」
- 361,698件パナソニックＩＰマネジメント株式会社
大阪府 · 登録特許の例「部品搭載装置及び部品搭載方法」
- 371,682件東京応化工業株式会社
神奈川県 · 登録特許の例「処理基板の製造方法、基板の処理方法、パターン形成方法及び洗浄液」
- 381,627件国立研究開発法人産業技術総合研究所
東京都 · 登録特許の例「炭化珪素半導体装置」
- 391,587件ＮＴＴ株式会社
東京都 · 登録特許の例「撮像素子及び撮像装置」
- 401,578件住友ベークライト株式会社
東京都 · 登録特許の例「封止用樹脂組成物、および半導体パッケージの製造方法」
- 411,566件株式会社荏原製作所
東京都 · 登録特許の例「基板処理装置、基板処理方法」
- 421,539件沖電気工業株式会社
東京都 · 登録特許の例「圧電膜集積デバイス、その製造方法、及び音響振動センサ」
- 431,499件株式会社リコー
東京都 · 登録特許の例「化合物、光電変換素子用化合物、光電変換素子、電子機器、及び電源モジュール」
- 441,497件株式会社村田製作所
京都府 · 登録特許の例「エピタキシャル成長基板及び半導体装置の製造方法」
- 451,452件新光電気工業株式会社
長野県 · 登録特許の例「セラミックス基板及びその製造方法、静電チャック、基板固定装置、半導体装置用パッケージ」
- 461,434件三菱マテリアル株式会社
東京都 · 登録特許の例「窒化物半導体材料及びこれを備えた熱流スイッチング素子」
- 471,417件株式会社ＳＵＭＣＯ
東京都 · 登録特許の例「半導体インゴットのスライシング加工条件決定方法および半導体ウェーハの製造方法」
- 481,378件株式会社アルバック
神奈川県 · 登録特許の例「成膜方法及び弾性波デバイス」
- 491,373件リンテック株式会社
東京都 · 登録特許の例「半導体加工用粘着シート及び半導体装置の製造方法」
- 501,343件ＪＳＲ株式会社
東京都 · 登録特許の例「感光性樹脂組成物、レジストパターン膜の製造方法、およびメッキ造形物の製造方法」
関連する技術分野
※技術分野は特許の WIPO 技術分類に基づく集計です。出典: J-PlatPat／特許庁公開情報。