東京都目黒区に所在する、2007年設立・社会保険被保険者数1名の専門サービス(美容・理容)企業。
- 所在地
- 〒153-0051 東京都 目黒区 上目黒3丁目1番12号
- 法人番号
- 9011601014882
東京都目黒区に所在する、2007年設立・社会保険被保険者数1名の専門サービス(美容・理容)企業。
個人向け
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
株式会社シーヴァは、オリジナル化粧品の企画・製造を主軸に置く化粧品メーカーである。生協および一般通販向けのOEM商品を手がけ、自社企画のオリジナル化粧品を国内・海外の取引先へ供給する。ネット販売の総代理店はグループ関連会社の株式会社コスメジタンが担い、通販サイト「コスメジタン」で商品を展開する。開発コンセプトは「より速く、より簡単に、より美しく」であり、時短コスメとして薬用ホワイトニングデンタクリーンや薬用美白ピールホワイトEXなどを企画している。 同社は10社を超える化粧品OEM工場とパートナー契約を結び、自社およびモニターが納得するまで試作を繰り返す開発体制に特徴がある。配合原料の選定に重点を置き、開発時には自社の肌で実使用検証を行う。代表がこれまでに企画した商品の販売累計は1,200万個を超える。本社では商品の試用・購入に応じ、不定期でメイクレッスンも開催する。国内・海外を問わず自社企画商品の取扱取引先を募るほか、化粧品関連の商品提案や機能性が明確な新規原料・新素材の提案も受け付ける。
2026年9月25日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
社会保険被保険者数
1人 · 2026年9月
34期分(2023/12〜2026/09)
被保険者数 前年同月比
0人 · 2026年9月
前年同月 1人(2025年9月)→ 1人(0人)
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同地域・同業種で選定
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所在地を問わず同業種で選定
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株式会社アデランス上場
株式会社田谷上場
株式会社クリア
株式会社コンヴァノ上場
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株式会社アトリエはるか
株式会社ノンストレス
株式会社シーヴァは商標28件・特許1件を保有しています。商標は洗浄剤・化粧品(第3類)の分野が中心です。
商標
28件
審査中・消滅含む 45件
特許
1件
登録・現存
1件
審査中
0件
満了
0件
消滅
0件
拒絶・取下げ
0件
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