法人向け（製造業）
2026年3月時点
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
ダイプラ・ウィンテス株式会社は、表面・界面および光・水・熱をキーワードに、材料の物性評価や劣化促進試験を行う評価機器専門メーカーです。同社は「見えないところを見えるようにする技術」を追求し、独自の評価機器の企画・研究・開発・販売・保守管理を手掛けています。主要製品として、表面・界面物性解析装置「SAICAS（サイカス）」、超促進耐候性試験機「METAL WEATHER（メタルウェザー）」、高照度可視光線照射装置「DW-LED」を提供しています。これらの装置は、自動車、建築、電池、半導体、電気機器、印刷、塗料など多岐にわたる業界の先端技術の研究開発や品質評価に活用されています。 「SAICAS」は、被着体の剥離強度やせん断強度を数値化し、異種材料の界面近傍の状態観察、塗膜や混合材の深さ方向への切削面観察による分散状態解析、耐候性試験後の劣化状態追跡を可能にする技術です。超低速切削により、多層膜の特定の界面を狙った剥離や、回収した切片を用いた詳細な化学分析にも対応します。「METAL WEATHER」は、メタルハライドランプ方式を採用し、光、熱、湿度、結露、降雨といった自然環境因子を任意に設定することで、従来の試験機に比べて高い促進性で製品の経年劣化を短期間で再現します。これにより、研究開発の時間短縮とランニングコストの低減に貢献しています。また、「DW-LED」は白色LED光源により最大650万ルクスの高照度可視光線を照射し、屋内使用製品の劣化評価を効率的に行います。 同社はこれらの評価機器の提供に加え、耐候性や付着性能などの物性に関する受託試験サービスも展開しており、高分子関係の評価機関と連携したコンサルタント業務も行っています。製品導入後のアフターサービスにも注力し、東日本・西日本営業所にユーザーサポート部門を配置し、定期点検、校正、修理、操作説明、試験条件に関するコンサルティングなどを迅速に提供しています。タキロンシーアイ株式会社のグループ企業として、独自の技術力と手厚いサポート体制を強みに、顧客の研究開発を支援し、社会の発展に寄与しています。
2026年5月25日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
6,488万円
総資産
5.1億円
社会保険被保険者数
16人 · 2026年9月
30期分（2024/04〜2026/09）
ROE単体
24.5% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
ROA単体
12.73
このデータをAIで活用
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接続方法を見る同地域・同業種で選定
所在地を問わず同業種で選定
11期分（2016/03〜2026/03）
自己資本比率単体
51.96% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
酒井重工業株式会社上場
ダイプラ・ウィンテス株式会社は特許9件・商標8件を保有しています。商標は電子機器・ソフトウェア（第9類）、特許は計測などの分野が中心です。
特許
9件
審査中・消滅含む 30件
商標
8件
審査中・消滅含む 13件
登録・現存
9件
審査中
2件
うち審査請求なし 2件
満了
0件
消滅
10件
拒絶・取下げ
9件
※各区分の現存登録・審査中・消滅の件数です。企業の事業分野そのものではありません。
ＤＡＩＰＬＡ ＷＩＮＴＥＳ
電子機器・ソフトウェア・IT・研究開発・デザイン · 登録2026
ＳＡＩＣＡＳ
電子機器・ソフトウェア · 登録2026
Ｎａｎｏ Ｃａｔｃｈｅｒ
電子機器・ソフトウェア · 登録2008
ナノキャッチャー
電子機器・ソフトウェア · 登録2008
Ｍｅｔａｌ Ｓａｌｔ Ｗｅａｔｈｅｒ
·
光照射試験装置登録2026・請求項5項
ＬＥＤ光源を用いた光照射試験装置においてＬＥＤ光源を適切に冷却して照度を維持する。
試料分析方法及び試料分析装置登録2026・請求項6項
試料の内部の状態を高精度で分析する。
データ基準日: 2026年8月6日確認分
Ｍｏｖｉｎｇ Ｗｅａｔｈｅｒ
電子機器・ソフトウェア · 登録2004
試料表面切削方法、試験切片の作製方法、及び、試料表面切削装置登録2023・請求項6項
試験切片作製の自動化を可能とする試料表面切削方法
光照射試験装置登録2023・請求項6項
ＬＥＤ光源を用いた光照射試験装置においてＬＥＤ光源を適切に冷却して照度を維持する。
試料分析方法、試料切片採取装置および試料切片採取用切刃登録2016・請求項3項
試料切片を切刃のすくい面に乗せた状態で測定光を当てて反射光を観測したときに反射光に試料の特徴がほとんど現れない現象が生じる頻度を低減する。
