東京都大田区に所在する、2000年設立・社会保険被保険者数4名の製造業（鉄鋼・金属）企業。
- 所在地
- 〒143-0016 東京都 大田区 大森北４丁目１２番３号
- 法人番号
- 3010401064219
東京都大田区に所在する、2000年設立・社会保険被保険者数4名の製造業（鉄鋼・金属）企業。
法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに分類・推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
株式会社インターフェイスは、同社独自の表面処理技術を基盤に、金属・セラミックスなどへのPVD・CVDコーティング受託加工を主軸とする。主な処理は、CVD-SiC、CVDによるTiC・TiN、PVDによるDLC・ta-C、Ti系・Cr系硬質膜、増速拡散表面改質法によるMAD処理である。HI-MAD処理は合金表層をアモルファス化し、寸法変化を抑えながら硬度・離型性・耐食性を高める。DLCやta-C Xは切削工具、金型、摺動部品の耐摩耗性と耐凝着性を向上させ、CVD-SiCは半導体装置部品、耐熱部材、精密ステージなどに用いられる。 受託加工に加え、PVD・CVD成膜装置、DLC装置、真空装置、ガス供給装置、高温真空炉の設計・製造・開発も手掛け、用途、処理寸法、膜種、予算に応じて装置を構成する。アークイオンプレーティング、スパッタリング、プラズマCVDなどを組み合わせ、単層膜、多層膜、複合膜に対応する点が特徴である。精密・微細部品や単品、小ロット、量産処理を扱い、切削工具・金型メーカー、半導体関連企業、電子部品・自動車部品・食品包装機械の製造事業者を主要顧客とする。開発実績には燃料電池用GLC・FHC、マイクロイオンビーム成膜装置、精密高温CVD装置があり、2014年には台湾工業技術研究院へSiC-CVD装置を納入した。受託処理で蓄積した成膜条件と装置開発を結び付ける事業構成を強みとする。
2026年8月6日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
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