有限会社ユーエムエス
35.7神奈川県横浜市青葉区に所在する、従業員（被保険者）1名の企業。
- 所在地
- 〒225-0002 神奈川県 横浜市青葉区 美しが丘３丁目１５番地２
- 法人番号
- 4020002015718
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神奈川県横浜市青葉区に所在する、従業員（被保険者）1名の企業。
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有限会社ユーエムエスは特許13件・商標2件・実用新案1件を保有しています。商標は工業・農業用化学品（第1類）、特許は半導体などの分野が中心です。
特許
13件
登録 7
商標
2件
登録 2
実用新案
1件
登録 1
登録・現存
1件
審査中
3件
満了
0件
消滅
7件
拒絶・取下げ
3件
ＰＵＲＭＳ
工業・農業用化学品 · 登録2005
パムス
工業・農業用化学品 · 登録2005
基体表面上の付着物の除去方法、除去用処理液および除去装置登録2011・請求項15項
高濃度イオン注入で硬化変質したレジスト膜すら室温で除去することができ、炭酸エチレン（ＥＣ）処理並みの環境へのやさしさとオゾン再生を用いた多数回繰返し処理能力とを備えた、基板表面上の有機系付着物の除去用処理液と処理方法と除去装置と
電子工業用基板表面からのフォトレジストの除去方法及び除去装置登録2009・請求項9項
電子工業用基板表面の付着物の除去に当り、洗 浄を終えた洗浄液を実質的に濃度変化の少ないオゾンを 利用する処理方法で再生し、かつ微粒子除去用フィルタ ーや送液ポンプに化学的損傷を与えずに超微粒子を除い て再利用できる技術
データ基準日: 2026年7月24日確認分
産業分野: 電気工学（9）・計測機器（7）・化学（5）・機械工学（1）
有機被膜の除去方法および除去装置登録2007・請求項28項
高温でも安全で、循環再生使用ができる処理液 を用いて、基体上の有機被膜、例えばレジスト膜を、短 時間かつ効率的経済的に除去する手段
表面付着汚染物質の除去方法及び除去装置登録2004・請求項10項
半導体基板、液晶用ガラス基板など の電子デバイス用基板を初めとして種々の物品の表面付 着汚染物質を室温での短時間処理で除去し、清浄化する ことができる、安全で効率のよい表面付着汚染物質除去 方法
