特許技術分野 / WIPO

光学分野の特許を持つ企業一覧

レンズ・光学機器・光技術に関する特許分野です。

掲載企業数

4,631

特許件数

363,172

この技術分野の企業群の特徴

保有 4,631社

業種分布(大分類)

業種が判明している 3,362社で集計
製造業: 2,528社 (75.2%)IT・ソフトウェア: 185社 (5.5%)建設・土木: 174社 (5.2%)教育・研修: 116社 (3.5%)卸売・商社: 113社 (3.4%)専門サービス: 60社 (1.8%)メディア・エンターテインメント: 43社 (1.3%)エネルギー・環境: 42社 (1.2%)その他: 101社 (3.0%)業種判明3,362社
  • 製造業75%
  • IT・ソフトウェア6%
  • 建設・土木5%
  • 教育・研修3%
  • 卸売・商社3%
  • 専門サービス2%
  • メディア・エンターテインメント1%
  • エネルギー・環境1%
  • その他3%

業種(中分類)上位

  • 電気・電子機器586社 (17.4%)
  • 化学・素材511社 (15.2%)
  • 機械・設備412社 (12.3%)
  • 精密機器・光学277社 (8.2%)
  • 半導体・電子部品169社 (5.0%)
  • 医薬品・医療機器145社 (4.3%)
  • 学校教育(大学・専門)111社 (3.3%)
  • 自動車・輸送機器105社 (3.1%)
  • 鉄鋼・金属91社 (2.7%)
  • 木材・紙・印刷87社 (2.6%)
  • 日用品・化粧品60社 (1.8%)
  • 設備工事50社 (1.5%)

従業員規模分布

3,752
~10587
10~50706
50~100361
100~10001,419
1000~671

従業員数(健康保険等の被保険者数)が判明している3,752社の規模帯分布。

総資産分布

1,805
~1億17
1~10億71
10~100億378
100~1000億807
1000億~1兆411
1兆+121

直近3年以内に決算公告・有報等で総資産が確認できた1,805社が対象(保有企業全体の一部)。

※この分野の権利を保有する企業のうち、法人マスタに一致した4,211社を母集団とした集計です。 外国法人・業種不明の企業は各分布の母数から除外しています。

この技術分野で特許を持つ企業

特許件数の多い上位50社
  1. 1
    キヤノン株式会社

    東京都 · 登録特許の例「画像形成装置

    41,117
  2. 2
    株式会社リコー

    東京都 · 登録特許の例「静電潜像現像剤用キャリア、二成分現像剤、画像形成装置、プロセスカートリッジ、及び画像形成方法

    28,859
  3. 3
    富士フイルムビジネスイノベーション株式会社

    東京都 · 登録特許の例「加熱装置と被加熱物利用装置

    13,679
  4. 4
    セイコーエプソン株式会社

    東京都 · 登録特許の例「表示装置、および電子機器

    13,392
  5. 5
    シャープ株式会社

    大阪府 · 登録特許の例「画像形成装置

    11,776
  6. 6
    京セラドキュメントソリューションズ株式会社

    大阪府 · 登録特許の例「画像形成装置

    10,767
  7. 7
    コニカミノルタ株式会社

    東京都 · 登録特許の例「画像処理装置、画像形成装置及びプログラム

    10,266
  8. 8
    富士フイルム株式会社

    東京都 · 登録特許の例「表示方法

    10,131
  9. 9
    オリンパス株式会社

    東京都 · 登録特許の例「検出装置および検出方法

    8,792
  10. 10
    株式会社ニコン

    東京都 · 登録特許の例「感光性表面処理剤、パターン形成用基板、積層体、トランジスタ、パターン形成方法及びトランジスタの製造方法

    7,944
  11. 11
    NTT株式会社

    東京都 · 登録特許の例「カラー撮像素子および撮像装置

    5,683
  12. 12
    ブラザー工業株式会社

    愛知県 · 登録特許の例「画像形成装置

    5,677
  13. 13
    ソニーグループ株式会社

    東京都 · 登録特許の例「コンバータレンズ、および撮像装置

    5,627
  14. 14
    大日本印刷株式会社

    東京都 · 登録特許の例「反射型スクリーン、映像表示装置

    5,518
  15. 15
    株式会社半導体エネルギー研究所

    神奈川県 · 登録特許の例「表示装置

    4,957
  16. 16
    パナソニックホールディングス株式会社

    大阪府 · 登録特許の例「投写型画像表示装置

    4,810
  17. 17
    株式会社東芝

    神奈川県 · 登録特許の例「セラミックス薄膜メタライズ基板の製造方法、チップオンサブマウントの製造方法、および、半導体モジュールの製造方法

    4,753
  18. 18
    富士フイルムホールディングス株式会社

    東京都 · 登録特許の例「ビニルスルホンの品質劣化防止方法並びに精製方法

    4,658
  19. 19
    日本電気株式会社

    東京都 · 登録特許の例「導波路基板、光モジュールおよび光モジュールの製造方法

    4,622
  20. 20
    HOYA株式会社

    東京都 · 登録特許の例「眼用レンズ、その設計方法、その製造方法、および眼用レンズセット

    3,895
  21. 21
    三菱電機株式会社

    東京都 · 登録特許の例「光モジュール

    3,678
  22. 22
    TOPPANホールディングス株式会社

    東京都 · 登録特許の例「赤外光パスフィルター、着色組成物、固体撮像素子用フィルター、および、固体撮像素子

    3,588
  23. 23
    カシオ計算機株式会社

    東京都 · 登録特許の例「投影システム、投影方法及びプログラム

    3,412
  24. 24
    住友化学株式会社

    東京都 · 登録特許の例「レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

    3,408
  25. 25
    富士通株式会社

    神奈川県 · 登録特許の例「光分波装置及び伝送装置

    3,355
  26. 26
    住友電気工業株式会社

    大阪府 · 登録特許の例「光ファイバケーブルの製造方法および製造装置

    3,349
  27. 27
    日東電工株式会社

    大阪府 · 登録特許の例「異形を有する偏光板の製造方法

    3,081
  28. 28
    株式会社ジャパンディスプレイ

    東京都 · 登録特許の例「表示装置

    2,744
  29. 29
    信越化学工業株式会社

    東京都 · 登録特許の例「ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法

    2,648
  30. 30
    株式会社フジクラ

    東京都 · 登録特許の例「内視鏡用撮像モジュール

    2,630
  31. 31
    京セラ株式会社

    京都府 · 登録特許の例「光学装置及び撮像装置

    2,436
  32. 32
    JSR株式会社

    東京都 · 登録特許の例「オニウム塩化合物

    2,401
  33. 33
    株式会社日立製作所

    東京都 · 登録特許の例「画像生成装置、画像生成システム、画像生成方法

    2,264
  34. 34
    古河電気工業株式会社

    東京都 · 登録特許の例「ケーブルおよびケーブルの浸水検知装置

    2,150
  35. 35
    株式会社大林組

    東京都 · 登録特許の例「孔内撮影装置

    1,975
  36. 36
    三洋電機株式会社

    大阪府 · 登録特許の例「プロジェクタ

    1,866
  37. 37
    東京応化工業株式会社

    神奈川県 · 登録特許の例「レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤

    1,859
  38. 38
    東芝テック株式会社

    東京都 · 登録特許の例「画像形成装置及び情報処理プログラム

    1,748
  39. 39
    DIC株式会社

    東京都 · 登録特許の例「ネガ型感光性樹脂組成物

    1,545
  40. 40
    株式会社SCREENホールディングス

    京都府 · 登録特許の例「光学装置、露光装置および露光方法

    1,540
  41. 41
    三菱化学株式会社

    東京都 · 登録特許の例「電子写真感光体、電子写真プロセスカートリッジ及び画像形成装置

    1,486
  42. 42
    パナソニックIPマネジメント株式会社

    大阪府 · 登録特許の例「撮像装置

    1,440
  43. 43
    株式会社沖データ

    東京都 · 登録特許の例「画像形成装置

    1,422
  44. 44
    東京エレクトロン株式会社

    東京都 · 登録特許の例「直接描画応力膜を用いたウェーハの反り修正方法

    1,400
  45. 45
    日亜化学工業株式会社

    徳島県 · 登録特許の例「半導体ナノ粒子およびその製造方法ならびに発光デバイス

    1,327
  46. 46
    三菱ケミカル株式会社

    東京都 · 登録特許の例「ポリビニルアルコール系フィルム、偏光膜および偏光板、ならびにポリビニルアルコール系フィルムの製造方法

    1,211
  47. 47
    花王株式会社

    東京都 · 登録特許の例「剥離剤組成物

    1,178
  48. 48
    浜松ホトニクス株式会社

    静岡県 · 登録特許の例「光学装置及び光生成方法

    1,130
  49. 49
    artience株式会社

    東京都 · 登録特許の例「組成物、それを用いた膜、光学フィルタ、画像表示装置、固体撮像素子、および赤外線センサ

    1,060
  50. 50
    株式会社デンソー

    愛知県 · 登録特許の例「光学センサ

    1,042

※技術分野は特許の WIPO 技術分類に基づく集計です。出典: J-PlatPat/特許庁公開情報。