埼玉県さいたま市中央区に所在する、社会保険被保険者数21名のIT・ソフトウェア（AI・データ分析）企業。
- 所在地
- 〒338-0012 埼玉県 さいたま市中央区 大戸１丁目１番５－５０８号
- 法人番号
- 1010701025681
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埼玉県さいたま市中央区に所在する、社会保険被保険者数21名のIT・ソフトウェア（AI・データ分析）企業。
法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
ALITECS株式会社は、「光学技術」「検査技術」「ソフトウェア技術」を核に、最先端半導体分野に特化した多様なソリューションを提供する専門家集団です。同社は、リソグラフィ、RET/OPC、電子ビーム描画装置、半導体ウェーハ・マスク検査装置に関わる装置システム、モデル、アルゴリズム、計算機システム、AIにおいて豊富な経験を有しています。主要製品として、設計パターンデータと顕微鏡像を比較し、マスクパターン欠陥検査に用いるモデルベース画像データ処理システム「ACIS」を提供しており、簡易参照画像シミュレータ「RIG」とソフトウェア定義画像プロセッサ「SIP」で構成されます。また、電子ビーム描画装置の性能評価・最適化や露光プロセスのシミュレーションに活用される高機能な電子光学シミュレータ「AEOs」も開発・提供しています。 同社の事業は、物理モデルに基づく光学シミュレーション、高度な画像解析、高速・大規模データ処理を実現するアルゴリズム開発、そしてこれらのアルゴリズムが最大限のパフォーマンスを発揮する最適なサーバー環境を構築する計算機ソリューションを含みます。特に、分散処理やAIによる解析の活用が進む中で、CPU、メモリ構成の選定に加え、GPU導入も視野に入れた顧客ニーズに最適化した計算機環境を提案しています。画像検査技術においては、ウェーハ・マスク検査の知見と制御技術のプロフェッショナルが次世代技術を支え、大手半導体装置メーカーとの共同開発を通じてナノレベルの微細欠陥検出ノウハウを蓄積しています。光学・AI技術では、EUVリソグラフィや3D構造マスクに対応した高精度光学モデルを用いたシミュレーション、物理モデルとAIモデルを最適に組み合わせた高精度・高効率な検査技術を実現。深層学習を活用したAIによる欠陥自動分類も行います。同社は、日本の半導体産業の再興に貢献すべく、日本発の技術で世界市場でのビジネス確立を目指し、レガシー分野から最先端検査装置分野への参入も進めています。大手装置メーカーへのACISの採用実績や、経済産業省の「重要技術管理体制強化事業」への採択など、その技術力と実績は高く評価されています。さらに、TOOL株式会社やSelene Development社の各種ソフトウェアの販売代理店も務め、半導体製造プロセスに関連する高度な光学システムやマスクデータハンドリングツールなども提供しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
社会保険被保険者数
21人 · 2026年9月
33期分（2023/12〜2026/09）
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株式会社ジーデップ・アドバンス上場
セカンドサイトアナリティカ株式会社上場
株式会社ＦＲＯＮＴＥＯ上場
株式会社みらい翻訳
株式会社バカン
株式会社ライトアップ上場
株式会社ＲｅｖＣｏｍｍ
Ｒａｐｙｕｔａ Ｒｏｂｏｔｉｃｓ株式会社
ＡＬＩＴＥＣＳ株式会社は特許5件・商標2件を保有しています。商標は機械・エンジン（第7類）、特許はコンピュータ技術などの分野が中心です。
特許
5件
審査中・消滅含む 6件
商標
2件
登録・現存
5件
審査中
0件
満了
0件
消滅
0件
拒絶・取下げ
1件
※各区分の現存登録・審査中・消滅の件数です。企業の事業分野そのものではありません。
ＡＬＩＴＥＣＳ
電子機器・ソフトウェア・建設・修理・工事・機械・エンジン · 登録2026
ＡＬＩＴＥＣＳ
電子機器・ソフトウェア・機械・エンジン · 登録2015
パターン測定装置、方法及びプログラム、並びに、パターン検査装置、方法及びプログラム登録2023・請求項15項
パターン検査装置の操作者の経験則に頼ることなく、パターンを測定し、測定したパターンを検査する技術
データ基準日: 2026年9月24日確認分
産業分野: 電気工学（現存3）・計測機器（現存2）
検査装置、方法、及び、プログラム登録2022・請求項15項
検査対象がパターンの欠陥に限られない検査技術
テストパターンの抽出方法及び抽出プログラム登録2021・請求項4項
半導体デバイスの設計レイアウトデータからテストパターンを効率良く抽出することが可能なテストパターンの抽出方法及び抽出プログラム
設計レイアウトデータの不良検出方法及び設計レイアウトデータの不良検出プログラム登録2020・請求項6項
設計レイアウトデータの作成時間を短縮することが可能な設計レイアウトデータの不良検出方法、設計レイアウトデータの不良検出プログラム、及び設計レイアウトデータの不良検出装置
