法人向け（製造業・教育・研修）行政向け
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
株式会社エイコー・エンジニアリングは、1974年の創業以来、真空技術を基盤とした各種成膜装置および関連機器の設計、製造、販売を手掛けています。同社は特に、分子線エピタキシー（MBE）装置、スパッタリング装置、真空蒸着装置を主軸とし、超高真空環境下での精密な薄膜形成技術を強みとしています。これらの装置は、半導体デバイス、太陽電池、次世代不揮発性メモリー、青色LED・LD、有機EL、MEMS/センサ、SOIデバイス、カーボンナノチューブなどの最先端材料研究や生産プロセスに利用されています。 主要製品として、原子層堆積法により1原子層レベルで膜厚を制御し、均一で高品質な薄膜を形成するALD装置「EALD-4」や、TEM/SEM試料作製用のイオンコーター「IB-2/IB-3」を提供しています。MBE装置では、液体窒素を使用しない水冷式や自動ベーキング機構を備えた「EW-716」「EW-100S」など、多様な研究ニーズに対応するモデルを展開。スパッタリング装置では、複数のターゲットをスライドさせて材料選択が可能な「ESC-333L」や、大面積基板に対応する「ES-830」など、幅広い用途に対応する製品をラインナップしています。また、EB蒸着装置、プラズマCVD装置、PXP成膜装置、有機蒸着装置、接合装置、電子顕微鏡周辺装置、さらには顧客の特定の要望に応じた特注装置の開発・製造も行っています。 同社の製品は、東京大学、京都大学、産業総合技術研究所、理化学研究所などの国公私立大学や国公立研究所、旭硝子、ソニー、トヨタ自動車などの民間研究所、さらには英国、ドイツ、タイ、シンガポール、米国、台湾、韓国といった海外の研究機関に導入されており、基礎研究から応用開発まで幅広い分野の技術革新を支えています。成膜から分析、加工までを一貫して行えるマルチチャンバーシステムや、グローブボックスと一体化した有機蒸着装置など、高度な研究環境を提供するシステム構築能力も有しています。
2026年5月14日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
39人 · 2026年8月
33期分（2023/12〜2026/08）
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株式会社エイコー・エンジニアリングは特許4件を保有しています。特許は表面技術・コーティングなどの分野が中心です。
特許
4件
審査中・消滅含む 44件
実用新案
0件
審査中・消滅含む 4件
登録・現存
4件
審査中
0件
満了
0件
消滅
26件
拒絶・取下げ
18件
スパッタリング装置登録2017・請求項3項
基板上の成膜分布を良くし、スパッタ源の数量も減らしたスパッタリング装置
基板加熱冷却装置登録2013・請求項4項
簡単な操作により基板ｓと基板ホルダ１の急速冷却を可能とし、基板処理のスループットの向上を図る。
データ基準日: 2026年8月6日確認分
マルチターゲットスパッタリング装置登録2012・請求項2項
必要とするターゲットの数が増えても、真空チャンバの径を大きくしなくても済み、全体して真空チャンバの小型化を図る。
スパッタリング用マルチターゲット装置登録2011・請求項5項
面倒なアクチュエータの位置合わせ調整を行うことなく、ターゲットテーブル１を正確な位置に停止することが出来る位置決め機構を備える。
