東京都町田市に所在する、1967年設立・社会保険被保険者数45名の製造業（精密機器・光学）企業。
- 所在地
- 〒194-0041 東京都 町田市 玉川学園４丁目２４番２４号
- 法人番号
- 2012301001459
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東京都町田市に所在する、1967年設立・社会保険被保険者数45名の製造業（精密機器・光学）企業。
法人向け（製造業・製造業・製造業・製造業・教育・研修）行政向け
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
株式会社大和テクノシステムズは、1967年創業以来、半世紀以上にわたり精密装置用部品の受託製造販売を手掛ける専門メーカーです。同社の主要事業は、電子顕微鏡用精密部品、その他分析機器、半導体検査装置、産業機器用微細精密部品の受託製造販売、および電子顕微鏡保守メンテナンスサービスです。特に電子顕微鏡分野では、電子銃（フィラメント、引出し電極、ユニット）、アパーチャー（X線遮蔽ピンホール、オリフィス）、シンチレータチップ、特注試料台、グリッド、メッシュ、貴金属ターゲットなどの多岐にわたる部品を提供しています。質量分析装置向けには、ガスクロマト質量分析装置の電子源フィラメント（EI方式）を、タングステンだけでなくレニウム、モリブデン、タンタルといった耐食性の高い特殊素材で製造し、シールドパーツの溶接も行います。半導体製造装置向けには、描画装置、解析装置、検査装置、イオン注入装置、成膜装置などに用いられる高精度な荷電粒子線光学部品やイオン化プロセス部品を提供し、脱磁焼鈍やスパッタ処理にも対応。産業機械分野では、電子線蒸着用大電流フィラメントや雰囲気制御用センシングフィラメント、微量ガス制御オリフィスなどを手掛けています。 同社の強みは、最小φ0.002（2μm）の超微細穴加工を可能にする独自の放電電極内製技術、微細穴内面を鏡面仕上げする特殊バリ取り、ナノレベルの汚染物を除去する精密洗浄、そして世界で唯一無二のプラズマCVD法によるオスミウム成膜技術です。タングステン、モリブデン、タンタルなどのレアメタルや難削材の微細加工を得意とし、設計・製図から加工組立、真空パック包装まで一貫したワンストップ供給体制を構築しています。小ロット試作にも柔軟に対応し、国公立大学、官庁、国内外の分析装置、半導体検査装置、医療機器、産業機械メーカーなど幅広い顧客層に対し、高度な技術力と品質で貢献しています。海外取引も全体の約3割を占め、その技術力は世界的に認められています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
6,121万円
総資産
13億円
社会保険被保険者数
44人 · 2026年10月
35期分（2023/12〜2026/10）
被保険者数 前年同月比
-2.2% · 2026年10月
前年同月 45人（2025年10月）→ 44人（-1人）
ROE単体
9.87% · 2024年3月
1期分（2024/03〜2024/03）
ROA単体
4.61% · 2024年3月
1期分（2024/03〜2024/03）
自己資本比率単体
46.69% · 2024年3月
1期分（2024/03〜2024/03）
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同地域・同業種で選定
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純利益
6,121万円
総資産
13億円
所在地を問わず同業種で選定
セイコーウオッチ株式会社
ダミアーニ・ジャパン株式会社
リオン株式会社上場
株式会社小野測器上場
株式会社グラファイトデザイン上場
株式会社クロスフォー上場
株式会社堀場製作所上場
株式会社河合楽器製作所上場
株式会社大和テクノシステムズは商標4件・特許3件を保有しています。商標は電子機器・ソフトウェア（第9類）、特許は表面技術・コーティングなどの分野が中心です。
商標
4件
審査中・消滅含む 8件
特許
3件
審査中・消滅含む 7件
登録・現存
3件
審査中
0件
満了
0件
消滅
3件
拒絶・取下げ
1件
Ｄａｉｗａ Ｔｅｃｈｎｏ Ｓｙｓｔｅｍｓ
電子機器・ソフトウェア · 登録2017
大和テクノオスミウムアパーチャープレート
電子機器・ソフトウェア · 登録2009
ミスタースポットくん
機械・エンジン · 登録2002
金属プレート及びオスミウム膜の成膜方法登録2015・請求項3項
極小径の貫通孔を有するプレートに１回のプラズマ成膜処理で薄膜を成膜するための成膜処理用治具
角度変更機能を有する小型試料台登録2013・請求項8項
試料の傾斜角度を変更する機構を有しない荷電粒子線応用装置においても，試料の損傷や位置ずれを抑え，取扱容易に試料の傾斜角度を変更できる小型の試料台
成膜処理用治具及びプラズマＣＶＤ装置登録2013・請求項9項
極小径の貫通孔を有するプレートに１回のプラズマ成膜処理で薄膜を成膜するための成膜処理用治具
データ基準日: 2026年8月6日確認分
