法人向け（製造業・教育・研修）行政向け
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
株式会社真空デバイスは、真空技術を応用した装置の製造販売を主要事業としています。同社は、スパッタ装置、蒸着装置、プラズマ照射装置、CVD装置、および各種真空コンポーネントを製造し、特に電子顕微鏡試料作成用の前処理装置や研究開発機関向けの小型真空装置を幅広くラインナップしています。半導体、バイオ、環境、ナノテクといった最先端技術研究開発分野で活躍する研究者や企業に対し、新技術開発に必要な実験器具・装置、そして電子顕微鏡試料作製に関わる装置の開発、製品化、販売、サービスを一貫して提供しています。 主要製品としては、金、白金、オスミウムなどの貴金属やタングステン、クロム、銅、モリブデン、ニッケル、タンタル、チタン、アルミニウム、ITOといった多種多様な金属の成膜が可能なマグネトロンスパッタ装置（MSP-mini, MSP-1S, MSP-20UM/MT/TK, MSP-8in/12in, MSP-40T）や、絶縁膜・酸化膜の成膜に対応するRFスパッタ装置（VRF-100S）があります。また、高倍率観察に不可欠なオスミウムコーター（HPC-20）、高分子材料の内部構造観察に用いる真空電子染色装置（ES-200）、X線分析用カーボン膜作成のカーボンコーター（VC-300）、親水処理・カーボンコーター・イオンスパッタ機能を一体化したマルチ成膜装置（VES-10）も提供しています。高真空蒸着装置（VE-2013/2050/2040）や、試料のコンタミネーションを抑えるSEM・TEM試料保管装置（SVS-100T, TVS-40T）、親水化処理やクリーニング、エッチングを行うプラズマ処理装置（PIB-10/20, PCU-40）、含水試料の乾燥に用いる凍結乾燥装置（VFD-21S/30）や試料急速凍結装置（VFZ-100）も手掛けています。 さらに、RFイオンスパッタ源、Kセル加熱コンポーネント、ビューポートシャッター、基板交換ハッチ、ICFフランジ直線移動機構といった特注品用真空コンポーネントの開発・製造も行い、顧客の多様なニーズに応えています。同社は、装置の販売だけでなく、購入前のテストコーティング、依頼サンプルによるテスト成膜、少量の受託成膜、デモンストレーション、そして医学生物学分野の試料作成における専門家による技術指導といった受託サービスも展開しており、研究者の「名脇役」として、早く、廉く、そして使いやすい機器とサポートを提供することで、最先端の研究開発を強力に支援しています。特に、ナノメートルレベルの成膜を専門とし、高倍率電子顕微鏡観察における試料の前処理技術に強みを持っています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
16人 · 2026年7月
32期分（2023/12〜2026/07）
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酒井重工業株式会社上場
株式会社真空デバイスは特許18件・実用新案1件・商標1件を保有しています。商標は機械・エンジン（第7類）、特許は表面技術・コーティングなどの分野が中心です。
特許
18件
登録 11
実用新案
1件
登録 1
商標
1件
登録 1
登録・現存
3件
審査中
0件
満了
1件
消滅
8件
拒絶・取下げ
7件
ＶＤ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア · 登録2018
電子染色装置登録2026・請求項4項
電子顕微鏡で観察する高分子材料に浸透させる導電性ガスに不純物が混入することを低減し効率良く染色を施す。
電子顕微鏡で観察する観察試料およびその作成方法、並びに観察方法登録2013・請求項6項
課題デバイス素子の微細化に伴って要求される、試料を被覆層で覆った時に、被覆層に用いた材料による試料への影響を極めて小さいものとして、正確なコントラストのよいレジストパターン、有機材料層あるいは半導体材料層の断面形状を得る。
データ基準日: 2026年7月29日確認分
産業分野: 化学（12）・計測機器（10）・電気工学（10）
電子顕微鏡で観察する観察試料およびその作成方法、並びに観察方法登録2013・請求項6項
デバイス素子の微細化に伴って要求される、試料を被覆層で覆った時に、被覆層に用いた材料による試料への影響を極めて小さいものとして、正確なコントラストのよい断面形状を得ることのできる試料の形成方法
プラズマイオン金属被着装置登録2011・請求項2項
広く浅いホローカソードであっても、密度の高いプラズマを形成することが出来、安定して金属被膜を成膜する。
マグネトロン型イオンスパッタ用ターゲット電極登録2010・請求項3項
大面積基板に対応可能なように、広い面積のターゲット金属の表面上に沿って平行な磁場を形成することを可能とする。。
