法人向け(製造業)
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
株式会社同人産業は、硬質脆性材料に特化した専門商社として、各種半導体材料の製造、販売、輸出入をグローバルに展開しています。同社は、サファイア、シリコン、SiC(シリコンカーバイド)、GaN(ガリウムナイトライド)、GaAs(ガリウムヒ素)といった主要な結晶材料に加え、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、人工水晶(SiO2結晶)、フッ化物(CaF₂・MgF₂)、ダイヤモンド、MgO、YAG、LBOなどの多様な結晶材料を取り扱っています。また、合成石英、溶融石英といった石英製品、アルミナ、窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化アルミ、BN、B4Cなどのファインセラミックス、さらに磁性材料や各種光学ガラスも提供しています。 同社の強みは、素材調達から切断、スライス、研削、研磨、エッチング、穴あけ、溝加工、面取り、膜付け、接着加工、CMP、バックグライディング、ダイシング、モニターウェハ再生加工といった精密加工までをワンストップで提供できる一貫体制にあります。長年の国際貿易経験で培った独自の専門知識とネットワークを活かし、日本国内だけでなく中国、韓国、ASEAN地域のお客様に対し、高品質、低価格、短納期、安定供給、信頼性を兼ね備えた最適なソリューションを提供しています。 特に、サファイア基板はKyropoulos製法を中心に、LEDエピー基板や光学窓などに利用され、シリコンウェハーはCZ法、FZ法、MCZ法を駆使し、デバイス基板やソーラー基板、光学用として幅広いサイズに対応。SiCは昇華法でパワーデバイスや高周波デバイス向けに、GaNはHVPE法による自立基板やMOCVD法によるテンプレートを提供し、光デバイスやパワーデバイス、高周波デバイスの進化に貢献しています。GaAsは高電子移動度と高抵抗率を活かし、高速通信用半導体素子や発光ダイオードに用いられています。 同社はMOCVD法による各種エピウェハー(GaN on Sapphire/SiC/Silicon、AlN on Sapphire、GaAs/InP production)も手掛け、高付加価値基板を提供。フッ化物結晶はUVからIR領域の光学材料として、LNやLT結晶は圧電素子や非線形光学材料として、人工水晶は水晶振動子や光学デバイスの基板として利用されています。さらに、ワイヤソー装置や各種ウェハーケースの輸出入販売も行い、半導体産業の幅広いニーズに応えています。 経営理念として「クリーンエネルギー製品及び省エネルギー製品に使用される各種半導体材料を提供することによって、地球環境を守っていく」を掲げ、省電力化に不可欠な材料の迅速かつ安定的な供給を通じて、企業の社会的責任を果たすことを重視しています。GaN結晶やパワーデバイス、インバータの研究開発にも積極的に取り組み、電気自動車の電費向上や航続距離延長など、次世代技術への貢献を目指しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
社会保険被保険者数
3人 · 2026年8月
33期分(2023/12〜2026/08)
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