法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
山口精研工業株式会社は、荒川化学工業株式会社のグループ会社として、ハイテク産業を支える精密研磨剤の開発、製造、および販売を主軸事業としています。同社は1985年の創業以来、30年以上にわたる研究開発で培った技術とノウハウを活かし、高度に多様化する顧客ニーズに応じた最適な鏡面研磨剤を提供しています。特に、ハードディスク（HDD）用アルミ基板やSAWデバイス用基板の製造工程における精密研磨剤において高い実績を有しており、ナノオーダーレベルの平滑性を実現する製品群が特徴です。 同社の製品は多岐にわたり、プラスチックレンズ用研磨剤「OPTFINE OP-シリーズ」をはじめ、ハードディスク基板用研磨剤「Neopolish-シリーズ」、酸化物系基板（タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、サファイア等）用研磨剤「CHEMISTER CL-シリーズ」を展開しています。さらに、化合物半導体基板（ヒ化ガリウム、リン化ガリウム、窒化ガリウム等）用研磨剤「CHEMISTER CG-シリーズ、CL-シリーズ」、次世代パワー半導体基板（SiC、GaN）用研磨剤、各種セラミックス材料（窒化アルミニウム、窒化ケイ素、アルミナ基板、ジルコニア基板等）用研磨剤、金属材料（Ti、Cu、ステンレス等）用研磨剤「ALMEDIA AM-シリーズ」など、幅広い素材に対応する製品を提供しています。顧客の求める「鏡面」を実現するため、原材料選定から製造プロセス、性能評価まで一貫してクリーンな環境で実施し、カスタムメイドのポリッシング剤開発にも注力することで、スマートフォン、タブレットPC、サーバー、LED、光通信、パワー半導体応用機器といった先端産業の基盤技術を支えています。
2026年5月21日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
3.3億円
総資産
33億円
従業員数（被保険者）
63人 · 2026年7月
32期分（2023/12〜2026/07）
ROE単体
14.24% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
ROA単体
9.91% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
自己資本比率単体
69.58% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
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ＫＩＮＣＨＯ園芸株式会社
山口精研工業株式会社は特許90件・商標5件を保有しています。商標は洗浄剤・化粧品（第3類）、特許は基礎材料化学などの分野が中心です。
特許
90件
登録 63
商標
5件
登録 4
産業分野: 化学（78）・機械工学（76）・電気工学（66）
Ｙ∞Ｓ∞ネオポリッシュ
洗浄剤・化粧品 · 登録2019
Ｙ∞Ｓ
洗浄剤・化粧品 · 登録2019
ＳＹ∞ネオポリッシュ
洗浄剤・化粧品 · 登録2008
ＳＹ
洗浄剤・化粧品 · 登録2008
磁気ディスク基板用研磨剤組成物、及び磁気ディスク基板の研磨方法登録2025・請求項8項
アルミナ粒子を使用することなく、高い研磨速度を実現可能であって、かつ、良好な表面平滑性、特に「シャローピット」と称される微細な凹欠陥を無くし、シリカ粒子の付着のない表面状態を実現可能な研磨剤組成物の提供を課題とする。
フツリン酸ガラス用研磨剤組成物、及びフツリン酸ガラス用研磨剤組成物を用いた研磨方法登録2025・請求項9項
高い研磨速度を有し、酸化セリウム系研磨剤の代替としてフツリン酸ガラスの研磨が可能なフツリン酸ガラス用研磨剤組成物の提供を課題とする。
シリカ分散液、及び研磨剤組成物登録2024・請求項10項
抗菌性を有し、研磨剤組成物の一成分として使用する場合であっても、研磨速度の低下が僅かであり、研磨後の基板の表面状態が良好な抗菌剤を配合したシリカ分散液の提供を課題とする。
磁気ディスク基板用研磨剤組成物登録2024・請求項4項
高い生産性を維持しつつ、多段研磨方式における粗研磨工程後の基板表面の砥粒残渣や研磨屑などの付着物を低減し、更にうねりの低減を実現できる磁気ディスク基板用研磨剤組成物
磁気ディスク基板用研磨剤組成物登録2024・請求項8項
生産性を低下させることなく、研磨後の基板のうねりの低減化及びハレーションの低減化の双方を可能とするための磁気ディスク基板用研磨剤組成物
