法人向け（製造業・教育・研修）行政向け
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
アリオス株式会社は、1972年の創業以来、真空技術とプラズマ応用技術を基盤に、超高真空機器・装置、プラズマ応用機器・装置、各種実験・計測用機器の設計、製造、販売を手掛けています。同社は、半導体産業の発展とともに超高真空技術や真空成膜技術を蓄積し、研究開発用途から生産現場向けの装置まで、幅広いニーズに対応しています。特に、分子線エピタキシー（MBE）装置、化学気相成長（CVD）装置、イオン注入装置などの成膜・表面処理装置、および超小型マイクロ波プラズマ源やRFプラズマ源といったプラズマ発生ユニット、EB蒸着源、分子線セルなどのコンポーネントを提供しています。 同社の製品は、宇宙航空研究開発機構や情報通信研究機構といった官公庁、北海道大学、東京大学、京都大学、大阪大学など多数の大学・研究機関に納入実績があり、先端科学技術の研究開発を支える重要な役割を担っています。また、生産技術や生産用機器・装置、制御機器、システムの開発受託も行っており、顧客の特定の要求に応じたオーダーメイド設計や特殊仕様の製作にも強みを持っています。長年の経験と豊富な特許技術に裏打ちされた専門知識により、クリーンな原子・ラジカルビームの生成や高品質な窒化膜形成など、高度なプロセスを実現するソリューションを提供しています。 同社は、真空・プラズマ技術を核として、研究開発のみならず生産現場における科学技術の発展に貢献することを目指しており、装置の設計から製造、メンテナンスまで一貫したサポート体制を構築しています。これにより、顧客は安定した装置運用とプロセスの最適化を図ることが可能となり、半導体、新素材、電子部品などの先端技術分野におけるイノベーションを促進しています。
2026年5月17日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
36人 · 2026年8月
33期分（2023/12〜2026/08）
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日本電子材料株式会社上場
アリオス株式会社は特許17件・商標1件を保有しています。商標は機械・エンジン（第7類）、特許は表面技術・コーティングなどの分野が中心です。
特許
17件
審査中・消滅含む 30件
商標
1件
登録・現存
17件
審査中
0件
満了
0件
消滅
9件
拒絶・取下げ
4件
ＡＲＩＯＳ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア · 登録2001
反応性スパッタ装置登録2024・請求項3項
基板加熱用のヒータを活性ガスから保護しつつ、排気制御が容易な反応性スパッタ装置
ダイヤモンド合成用ＣＶＤ装置登録2023・請求項10項
より広い面積で高速かつ均一にダイヤモンドを成長させることができるダイヤモンド合成用ＣＶＤ装置の提供。
データ基準日: 2026年8月6日確認分
産業分野: 化学（現存15）・電気工学（現存7）
熱フィラメントＣＶＤ装置登録2022・請求項3項
ダイヤモンド等の化学気相合成において、高速成長を図るのに有効な熱フィラメントＣＶＤ装置の提供
プラズマＣＶＤ装置及びダイヤモンドの成長方法登録2020・請求項3項
ダイヤモンドのさらなる高速成長を可能にするプラズマＣＶＤ装置
ダイヤモンドの製造方法登録2019・請求項1項
Ｎｉ，Ｃｕ，Ｃｏ等を基材に用いたヘテロエピタキシャル成長法による効率的なダイヤモンドの製造方法の提供。
