法人向け(製造業・教育・研修)行政向け
アリオス株式会社は、1972年の創業以来、真空技術とプラズマ応用技術を基盤に、超高真空機器・装置、プラズマ応用機器・装置、各種実験・計測用機器の設計、製造、販売を手掛けています。同社は、半導体産業の発展とともに超高真空技術や真空成膜技術を蓄積し、研究開発用途から生産現場向けの装置まで、幅広いニーズに対応しています。特に、分子線エピタキシー(MBE)装置、化学気相成長(CVD)装置、イオン注入装置などの成膜・表面処理装置、および超小型マイクロ波プラズマ源やRFプラズマ源といったプラズマ発生ユニット、EB蒸着源、分子線セルなどのコンポーネントを提供しています。 同社の製品は、宇宙航空研究開発機構や情報通信研究機構といった官公庁、北海道大学、東京大学、京都大学、大阪大学など多数の大学・研究機関に納入実績があり、先端科学技術の研究開発を支える重要な役割を担っています。また、生産技術や生産用機器・装置、制御機器、システムの開発受託も行っており、顧客の特定の要求に応じたオーダーメイド設計や特殊仕様の製作にも強みを持っています。長年の経験と豊富な特許技術に裏打ちされた専門知識により、クリーンな原子・ラジカルビームの生成や高品質な窒化膜形成など、高度なプロセスを実現するソリューションを提供しています。 同社は、真空・プラズマ技術を核として、研究開発のみならず生産現場における科学技術の発展に貢献することを目指しており、装置の設計から製造、メンテナンスまで一貫したサポート体制を構築しています。これにより、顧客は安定した装置運用とプロセスの最適化を図ることが可能となり、半導体、新素材、電子部品などの先端技術分野におけるイノベーションを促進しています。
2026年5月17日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数(被保険者)
36人 · 2026年6月
31期分(2023/12〜2026/06)
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