法人向け行政向け
2026年3月時点
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
アリオス株式会社は、同社が蓄積してきた真空技術を基盤に、超高真空機器・装置、プラズマ応用機器・装置、実験・計測用機器の設計、製造、販売を行う装置メーカーである。研究開発向けのMBE装置やCVD装置、成膜・表面処理装置に加え、RFラジカルビーム源、分子線セル、EB蒸着源、電子銃、真空排気セット、導波管部品、真空導入機構、ラングミュアプローブ測定システムなどを扱う。超高真空、真空成膜、プラズマ、イオン・電子利用、マイクロ波制御を中核技術とし、半導体、ダイヤモンド、窒化膜、材料・表面科学などの研究と生産工程に対応する。 標準製品の販売だけでなく、顧客の実験条件や設備仕様に合わせた特殊設計、装置開発、制御系構築、改造、保守、生産技術開発を受託する事業形態を採る。分子線セルでは30年以上の製造実績を持ち、部品段階と組立後の高温脱ガス処理、リークテスト、最高加熱温度・温度安定度測定を実施する。官公庁、国立研究機関、大学、民間企業を主要顧客とし、JAXA、理化学研究所、産業技術総合研究所、東京大学などへの納入実績がある。研究用の個別装置から生産用途のプラズマ処理装置まで扱い、機械設計、電装・制御、真空排気、計測を組み合わせて要求仕様を装置として具体化できる点を強みとする。
2026年8月28日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
社会保険被保険者数
36人 · 2026年9月
34期分（2023/12〜2026/09）
被保険者数 前年同月比
-5.3% · 2026年9月
前年同月 38人（2025年9月）→ 36人（-2人）
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株式会社ナンシン上場
オイレス工業株式会社上場
株式会社小松製作所上場
酒井重工業株式会社上場
ヴィスコ・テクノロジーズ株式会社上場
日本アイ・エス・ケイ株式会社上場
濱井産業株式会社上場
株式会社荏原製作所上場
アリオス株式会社は特許17件・商標1件を保有しています。商標は機械・エンジン（第7類）、特許は表面技術・コーティングなどの分野が中心です。
特許
17件
審査中・消滅含む 31件
商標
1件
登録・現存
17件
審査中
1件
うち審査請求なし 1件
満了
0件
消滅
9件
拒絶・取下げ
4件
ＡＲＩＯＳ
電子機器・ソフトウェア・機械・エンジン · 登録2001
反応性スパッタ装置登録2024・請求項3項
基板加熱用のヒータを活性ガスから保護しつつ、排気制御が容易な反応性スパッタ装置
ダイヤモンド合成用ＣＶＤ装置登録2023・請求項10項
より広い面積で高速かつ均一にダイヤモンドを成長させることができるダイヤモンド合成用ＣＶＤ装置の提供。
データ基準日: 2026年9月24日確認分
産業分野: 化学（現存15）・電気工学（現存7）
熱フィラメントＣＶＤ装置登録2022・請求項3項
ダイヤモンド等の化学気相合成において、高速成長を図るのに有効な熱フィラメントＣＶＤ装置の提供
プラズマＣＶＤ装置及びダイヤモンドの成長方法登録2020・請求項3項
ダイヤモンドのさらなる高速成長を可能にするプラズマＣＶＤ装置
ダイヤモンドの製造方法登録2019・請求項1項
Ｎｉ，Ｃｕ，Ｃｏ等を基材に用いたヘテロエピタキシャル成長法による効率的なダイヤモンドの製造方法の提供。
