愛知県刈谷市に所在する、社会保険被保険者数1名の製造業（電気・電子機器）企業。
- 所在地
- 〒448-0858 愛知県 刈谷市 若松町３丁目９番、ＹＦＢＬＤＧ３階
- 法人番号
- 7180001056752
- 所在ビル
- YF・BLDG(23 社)
Google ワンタップ・30 秒 ／ ログイン
愛知県刈谷市に所在する、社会保険被保険者数1名の製造業（電気・電子機器）企業。
法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
エルシード株式会社は、名城大学発のスタートアップ企業として、独自の高演色・高効率白色LED技術の製品化を使命としています。同社の事業は、JST大学発ベンチャー創出推進事業で得られた「モノリシック型高出力高演色性大型白色LEDの開発」の成果を基盤としており、具体的には「蛍光SiCを用いた世界初のモノリシック白色LED」と「モスアイ加工による光取り出し改善技術」を核としています。さらに2010年には、スウェーデンのリンショーピン大学からFSGP法を技術導入し、世界最高品質のSiC結晶成長技術も確立しました。 同社が提供する主要製品は「上山LED」と「モスアイ加工サファイア基板」です。上山LEDは、世界初のモノリシック型白色LEDであり、白熱電球や自然光に近い高い演色性とLED特有の高効率性を両立させています。これは高効率蛍光SiC基板製造技術、光励起用高効率GaN系近紫外LED製造技術、高光取り出し効率モスアイ加工技術の三つの要素技術に支えられています。特に、励起光源としてGaN系近紫外LEDを使用し、B, Al, Nが添加されたSiC層で白色光に変換する独自のメカニズムを採用。また、モスアイパターン化基板により光取り出し効率を最大化し、200℃までの高温動作が可能な高い耐熱性も実現しています。これにより、室内照明や液晶バックライト用途において、高いエネルギー効率、優れた演色性、安定した動作、長寿命を提供し、水銀不使用という環境配慮も特徴です。 一方、MPSSは、低コストかつ高効率なLED製造を可能にする次世代加工サファイア基板です。蛾の目の構造を応用し、LED内部での光の吸収損失を最小限に抑え、光をより垂直方向に強く放射させることで、光取り出し効率を大幅に向上させます。この技術はサファイアだけでなく、SiC、AlGaInP、GaNなど多様な材料に適用可能で、2, 3, 4インチ径のウエハに対応し、将来的には6インチ径も計画しています。MPSSの導入により、GaN層の膜厚を大幅に削減できるため、エピタキシャル成長コストの低減、大口径基板使用時のウエハ反り量低減、波長均一性の向上（高歩留り化）といったメリットがあり、青色、白色、黄色、赤色、緑色などあらゆる波長のLEDに応用されています。 同社は、これらの革新的な技術を製品化し市場に投入することで、顧客満足度の向上と世界的なエネルギー使用量削減に貢献することを目指しています。その技術的優位性は、2015年時点で57件の登録特許と53件の出願中特許に裏付けられています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
5,931万円
総資産
1.5億円
社会保険被保険者数
1人 · 2026年10月
35期分（2023/12〜2026/10）
被保険者数 前年同月比
0人 · 2026年10月
前年同月 1人（2025年10月）→ 1人（0人）
ROE単体
—% · 2021年12月
1期分（2021/12〜2021/12）
ROA単体
38.89% · 2021年12月
1期分（2021/12〜2021/12）
自己資本比率単体
-521.35% · 2021年12月
1期分（2021/12〜2021/12）
このデータをAIで活用
Claude / ChatGPT / Cursor などの MCP 対応クライアントから、エルシード株式会社の決算・登記履歴・役員・関係企業・知財・公共調達などの構造化データを直接取得できます。無料 20 クレジット/月で利用可能、9 種類のツールを提供。
接続方法を見る解放した会社と並べて比較できます
同地域・同業種で選定
同業種の企業を読み込み中
純利益
5,931万円
総資産
1.5億円
所在地を問わず同業種で選定
ウシオ電機株式会社上場
ｉ‐ＰＲＯ株式会社
ピクシーダストテクノロジーズ株式会社
桂川電機株式会社上場
日本プリメックス株式会社上場
岡谷電機産業株式会社上場
日本フォームサービス株式会社上場
バルミューダ株式会社上場
エルシード株式会社は特許3件を保有しています。特許は半導体などの分野が中心です。
特許
3件
審査中・消滅含む 44件
商標
0件
審査中・消滅含む 3件
意匠
0件
審査中・消滅含む 2件
登録・現存
3件
審査中
0件
満了
0件
消滅
24件
拒絶・取下げ
17件
ＳｉＣ材料の加工方法登録2016・請求項6項
レーザ光の照射時間を短縮しつつ、各ライン間で確実に割れを進展させることのできるＳｉＣ材料の加工方法
ＳｉＣ材料の製造方法及びＳｉＣ材料積層体登録2014・請求項6項
短時間でＳｉＣ材料を製造することができ、かつ、歩留まりを向上させることのできるＳｉＣ材料の製造方法及びＳｉＣ材料積層体
データ基準日: 2026年8月6日確認分
産業分野: 電気工学（現存2）・機械工学（現存2）・化学（現存1）
