法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
ローツェイアス株式会社は、ICP-MS（誘導結合プラズマ質量分析装置）を用いた微量元素分析に特化したソリューションを提供する企業です。長年の経験に裏打ちされた確かな技術力を基盤に、半導体産業をはじめとする幅広い分野において、高精度な分析ニーズに応える製品とサービスを展開しています。同社の主要事業は、ICP-OES/ICP-MS部品および周辺機器の製造・販売、金属分析の前処理装置の製造・販売、そして分析手法および装置取り扱いに関するコンサルティングです。 具体的な製品としては、Siウェーハ中の金属不純物の全自動分析を実現する画期的な前処理装置「Expert™ 全自動気相分解装置」があり、世界中の半導体関連工場で100台以上が稼働しています。また、レーザーアブレーションICP-MS法の定量性と小型密閉系セルの問題を解決した「LAGM™ レーザーアブレーション-GED-MSAGシステム」は、ウェーハの直接分析や優れた定量性を可能にします。さらに、半導体製造ラインの薬液中の金属不純物をサブpptレベルで24時間連続監視する「CSI オンラインモニタリングシステム」や、ICP-MS分析における標準液のオンライン自動添加を可能にする「ASAS II オンライン自動標準液添加装置」を提供し、分析作業の自動化と効率化を強力にサポートしています。超高純度薬液の希釈を自動化し、ICP-MS分析を全自動で行う「ASDM™ 自動希釈機能付きオートサンプラー」も提供。気体中の金属微粒子を直接ICP-MSに導入・分析できる「GED 気体中金属微粒子導入システム」は、環境分析や半導体分析に幅広く適用され、従来の捕集法に比べ約1,000倍の高感度分析を実現します。これらの製品は、顧客の多様な要望に合わせてカスタムメイドで提供され、大手分析装置メーカーと顧客のインターフェースとして、最適な分析ソリューションを具現化する技術集団としての役割を担っています。同社は、小規模ながらも唯一無二の製品を供給し続ける“小さな巨人”を目指し、常に技術革新と顧客満足を追求しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
69人 · 2026年7月
32期分（2023/12〜2026/07）
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ローツェイアス株式会社は特許29件・商標2件を保有しています。商標は電子機器・ソフトウェア（第9類）、特許は計測などの分野が中心です。
特許
29件
登録 19
商標
2件
登録 2
登録・現存
19件
審査中
1件
満了
0件
消滅
0件
拒絶・取下げ
9件
ＧＥＤ
電子機器・ソフトウェア · 登録2019
ＩＡＳ
電子機器・ソフトウェア · 登録2015
ガス状水銀又はスチビンの測定方法及び測定装置登録2020・請求項3項
ガス状水銀又はスチビンをリアルタイムで容易かつ確実に測定することができるガス状水銀又はスチビンの測定方法の提供
基板分析方法および基板分析装置登録2020・請求項3項
基板端部を、より簡易で迅速に分析することができる分析技術
データ基準日: 2026年7月29日確認分
産業分野: 計測機器（26）・電気工学（7）・化学（1）
シリコン基板の分析方法登録2019・請求項5項
膜厚の厚い窒化膜が成膜されたシリコン基板における微量金属等の不純物を、ＩＣＰ−ＭＳにより高精度に分析可能なシリコン基板の分析方法
元素分析方法登録2019・請求項10項
ケイ素マトリックスの析出による元素分析装置の閉塞を防止しながら、ケイ素含有化合物を含む試料中の不純物元素を従来の１，０００倍の精度で分析することができる元素分析方法
レーザーアブレーションＩＣＰ分析方法及び分析装置登録2018・請求項6項
本発明は、分析試料の拡散や分析感度の低下を抑制しつつ、表面積の大きな分析試料も簡便に分析可能となるレーザーアブレーションＩＣＰ分析方法の提供
