神奈川県横浜市西区に所在する、社会保険被保険者数57名の製造業（機械・設備）企業。
- 所在地
- 〒220-0012 神奈川県 横浜市西区 みなとみらい４丁目６番２号みなとみらいグランドセントラルタワー１４階
- 法人番号
- 9013401005343
神奈川県横浜市西区に所在する、社会保険被保険者数57名の製造業（機械・設備）企業。
法人向け
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
日本酸素ＡＴＩ株式会社は、半導体製造装置・産業機械装置の設計製造、エンジニアリング、メンテナンスを主軸とし、電気計装とソフトウェアの設計・製造も手掛ける日本酸素の100％子会社である。同社は、化合物半導体の薄膜形成に用いるMOCVD装置と関連装置を国内外向けに設計・製造する。量産向けGaN用装置「UR26K」、研究開発向け「SR4000」、酸化ガリウム向け「FR2000」を扱い、機械・配管設計、部品検品、組立、成膜テスト、納入後の保守まで担う。独自のガスハンドリング技術と、長年蓄積した装置設計・製造ノウハウを強みとする。 開発分野では、半導体用ドライアイス洗浄装置、ガス供給・回収設備、PBF式金属3Dプリンター向け循環精製システム「PrintPure」、金属粉末乾燥保管キャビネットなどを設計し、技術支援とメンテナンスを行う。北九州市の日本酸素イノベーションセンターでは先端設備の展示、デモ運転、性能確認を担い、半導体メーカー、研究機関、エレクトロニクス企業、金属積層造形の利用企業を対象に設備と技術検証の機会を提供する。 電気計装分野では、PLCを用いた制御盤・監視盤・操作盤、電子回路・基板、ファームウェア、SCADAとWindowsソフトを組み合わせた遠隔監視制御システムを受託開発する。IoT、Webシステム、Raspberry Pi、EtherCATにも対応し、出荷管理、トレーラー積載量管理、木質バイオマス受入計量などの納入実績を持つ。装置販売に加えて、個別設計、試作・量産、現地試運転、保守、ソフトウェア受託開発を収益源とし、機械・電気・制御・プロセス技術を社内で連携できる点に特徴がある。
2026年8月26日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
日本酸素ＡＴＩ株式会社は 2025 年 9 月、有限会社青森カシマソフトウェアを吸収合併しました。同月 1 日付で青森カシマソフトウェア（青森県八戸市）を合併し、存続会社としています。
2026 年 4 月には商号を大陽日酸ＡＴＩ株式会社から日本酸素ＡＴＩ株式会社へ変更。6 月には所在地を神奈川県川崎市川崎区から横浜市西区みなとみらいへ移転しています。
社会保険被保険者数は 2025 年 4 月の 45 名から 2026 年 7 月の 57 名へと、12 名（約 27%）増加しています。
この要約は 2026-07-20 に AI が公開情報をもとに生成しています。 対象イベント 4 件。 事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
社会保険被保険者数
57人 · 2026年8月
33期分（2023/12〜2026/08）
このデータをAIで活用
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接続方法を見る同地域・同業種で選定
所在地を問わず同業種で選定
日本酸素ＡＴＩ株式会社は特許30件・商標2件を保有しています。商標は電子機器・ソフトウェア（第9類）、特許は半導体などの分野が中心です。
特許
30件
審査中・消滅含む 38件
商標
2件
登録・現存
30件
審査中
0件
満了
0件
消滅
1件
拒絶・取下げ
7件
ＬＩＢＵＧ
電子機器・ソフトウェア・IT・研究開発・デザイン · 登録2023
匠電舎
電子機器・ソフトウェア・IT・研究開発・デザイン · 登録2023
気相成長装置登録2024・請求項6項
フローチャンネル内の基板における、ガス流れ方向の上流側の流速を上げつつ、均一な流速分布が得られ、結晶品質に優れた均一な半導体薄膜を歩留まり良く形成・成長させることが可能な気相成長装置
基板搬送装置及びこれを用いた基板取り出し方法登録2023・請求項2項
複雑な構造や動作を必要とすることなく、基板を収納容器から確実に取り出すことができる基板搬送装置及びこれを用いた基板取り出し方法
データ基準日: 2026年8月6日確認分
産業分野: 電気工学（現存27）・化学（現存25）・機械工学（現存1）・計測機器（現存1）
気相成長装置の基板搬送機構登録2023・請求項4項
半導体結晶の均一な成膜を妨げず、半導体の歩留まりがよい気相成長装置の基板搬送機構
気相成長装置の基板搬送機構及び基板搬送方法登録2023・請求項3項
半導体結晶の均一な成膜を促すことができ、半導体の歩留まりがよい気相成長装置の基板搬送機構
化合物半導体の製造方法登録2022・請求項3項
基板面内の半導体の発光波長が均一であり、基板から取り出せる半導体素子の歩留まりがよく、収率が高いエピタキシャルウエハの製造が可能な化合物半導体の製造方法
