法人向け（製造業・IT・ソフトウェア）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
株式会社高純度化学研究所は、1962年の設立以来、「技術革新の源は高純度材料にあり」という信念のもと、最先端のエレクトロニクス分野を支える高純度材料の製造販売、新素材の研究開発、および依頼分析の受託を主要事業として展開しています。同社は、金属・合金・無機化合物の高純度材料を中心に、周期表を網羅する幅広い製品ラインナップを提供。具体的には、薄膜形成に不可欠なスパッタリングターゲット、蒸着材料、CVD/ALD材料、CSD材料といった薄膜材料、さらに酸化物、硫化物、リン化物、窒化物、金属塩類などの無機化合物、微粉末、アトマイズ粉末、機能性材料といった金属・無機材料を供給しています。また、ラジアントテクノロジー社の日本総代理店として強誘電体・圧電体評価装置の販売とサポートも行い、化学の楽しさを伝える元素周期標本などの化学教材も手掛けています。 同社の強みは、60年以上にわたる材料開発で培った独自の技術とノウハウにあります。単純な化学合成に留まらず、組成を精密に制御した材料、多元系の合金材料、反応性の高い化合物を用いた合成など、多種多様な顧客ニーズに応える研究開発を継続。研究用材料から試作、量産まで、お客様の研究開発を一貫してサポートする体制を確立しており、国内外の大手半導体メーカーをはじめとする研究機関や大学の研究所、企業の開発部門、量産工場など、幅広い顧客層に高品質な材料を安定供給しています。溶解、焼結、合成、蒸留精製、機械加工、ボンディング、分析評価といったコア技術を活かした受託サービスも提供し、SPS（放電プラズマ焼結）装置や真空ホットプレス装置を用いた受託焼結、マグネトロンスパッタリングによる実験成膜サービス、材料に適したボンディング加工、そして高純度材料メーカーとしてのノウハウを活かした分析評価など、多岐にわたる技術支援を通じて、お客様のイノベーション創出に貢献しています。ISO9001およびISO14001の認証も取得し、品質と環境への配慮も徹底しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
227人 · 2026年7月
31期分（2023/12〜2026/07）
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ＫＩＮＣＨＯ園芸株式会社
株式会社高純度化学研究所は特許22件・商標16件を保有しています。商標は工業・農業用化学品（第1類）、特許は表面技術・コーティングなどの分野が中心です。
特許
22件
審査中・消滅含む 211件
商標
16件
審査中・消滅含む 20件
実用新案
0件
審査中・消滅含む 1件
登録・現存
22件
審査中
5件
うち審査請求なし 3件
満了
0件
消滅
62件
拒絶・取下げ
123件
ＡｃｒｏＳｔａｒ
機械・エンジン · 登録2019
日本テスコ
照明・加熱・衛生装置 · 登録2018
ケミーちゃん
工業・農業用化学品 · 登録2013
バケるくん
工業・農業用化学品 · 登録2012
Ｓｍａｒｔｅｃ
工業・農業用化学品 · 登録2012
蒸発原料用容器および固体気化供給システム登録2026・請求項18項
略一定の蒸発速度で安定的に蒸発原料の気化を継続する蒸発原料用容器
インジウムおよび一種以上の他の金属を含有する膜を製造するための蒸着用原料およびインジウムおよび一種以上の他の金属を含有する膜の製造方法登録2025・請求項5項
インジウム及び一種以上の他の金属を含有する膜を製造するための化学蒸着用原料であって、安定に長期間保存でき、取り扱いが容易な原料及びその製造方法
データ基準日: 2026年8月6日確認分
※各区分の現存登録・審査中・消滅の件数です。企業の事業分野そのものではありません。
産業分野: 化学（現存19）・電気工学（現存9）・機械工学（現存1）
Ｌａｎｔｈａｇｅｎ
工業・農業用化学品 · 登録2002
結晶性の窒化ガリウム薄膜の製造方法登録2025・請求項6項
原子層堆積（ＡＬＤ）による、より効率的なＧａＮ膜の製造方法であって、レーザーアニールなどの高温熱処理を行わずに、一価のガリウム化合物を用いて、不純物が極めて少なく結晶性の高いＧａＮ膜を製造する方法
固体原料気化容器および固体原料気化供給システム登録2024・請求項20項
時間の経過に伴う気化量の減少を抑制することができる固体原料気化容器
化学気相蒸着用原料、原子層堆積用原料、およびスズを含有する薄膜の製造方法登録2024・請求項4項
低温でも高い蒸気圧を持つビス(アルキルシクロペンタジエニル)スズまたはビス（アルキルテトラメチルシクロペンタジエニル）スズ、および、これらの有機スズ化合物を主成分とする化学蒸着用原料、および該化学蒸着用原料を用いた原子層堆積法によるスズを含有する薄膜の製造方法
