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法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
ノベリオンシステムズ株式会社は、「先進のプラズマ技術で微細加工の未来を拓く」をビジョンに掲げる技術開発型ベンチャー企業です。同社は、核融合プラズマ加熱装置用の大電流負イオン源技術を起源とし、プラズマ応用装置の開発、製造、販売、および特殊成膜プロセスの加工受託を主要事業としています。具体的には、ECRラインビームイオン源（ELBSシリーズ）、モジュール型ECRプラズマ源（EPSシリーズ）、ミリング用低エネルギー大電流イオン源、内径スパッタコーティング装置などのプラズマ応用装置を提供しています。特に、高速イオンビームミリング装置に適用可能な大電流DC放電型ラインビームイオン源「LBS-120HC」は、熱陰極を用いた大電流密度イオンビームと優れたビーム分布均一性、完全自動化が特長です。また、反応性イオンビームミリング装置向けのECRラインビームイオン源「ELBS-150」や、微細加工装置、高速エッチング装置、活性プラズマ処理装置に適用できる高出力ECRプラズマ源「EPS-120」も展開しています。超高真空装置に対応する小型ECR原子/ラジカルビーム源「ERS-35」は、酸/窒化薄膜形成プロセスで実績があります。同社は、各種プラズマ応用装置の開発受託や技術コンサルティングも手掛け、お客様のニーズに応じた化合物薄膜用スパッタ成膜装置やイオンビーム装置のカスタムメイクをリーズナブルな予算で提供し、開発目標達成まで丁寧にサポートするビジネスモデルを確立しています。対象顧客は、IoT化に伴い需要が高まる各種センサー素子や高周波回路素子、圧電薄膜、磁性薄膜など、従来のシリコンプロセスでは困難な新素材の微細加工を必要とする半導体・電子部品メーカーや研究機関など多岐にわたります。核融合実験炉の炉壁であるCFCダイバータブロックへの接合界面処理といった特殊成膜プロセスの加工受託も行い、高度な技術力と柔軟な対応力で微細加工分野の発展に貢献しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
3人 · 2026年7月
31期分（2023/12〜2026/07）
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日本電子材料株式会社上場
ノベリオンシステムズ株式会社は特許6件を保有しています。特許は表面技術・コーティングなどの分野が中心です。
特許
6件
登録 4
蒸気発生材料登録2023・請求項7項
本発明は、アウトガスとスプラッシュとを抑制し、安定して高効率に蒸発物質の蒸気が得られることができる蒸気発生材料を提供することを目的とする。併せて、低温で蒸発物質の蒸気化が可能な蒸気発生材料を提供することを目的とする。さらに、運搬性及び取扱いが改善された固相の蒸気発生材料を提供すること
イオンビーム照射装置登録2013・請求項7項
Ｘ方向の寸法よりもＹ方向の寸法が大きいイオンビームに対して低エネルギーの電子を広範囲に供給することができ、それによって基板の帯電を均一性良く抑制することができるイオンビーム照射装置
イオンプレーティグ方法登録2012・請求項3項
イオンプレーティングにおいて、プラズマを高密度化、均一化、低圧力化することによって、効率良くかつ均一に成膜する。
