法人向け（製造業）個人向け
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
田中貴金属工業株式会社は、1885年の創業以来、貴金属の可能性を追求し、社会の発展と豊かな暮らしに貢献してきた貴金属のリーディングカンパニーです。同社は主に「産業用」と「資産用」の二つの分野で事業を展開しています。産業用分野では、自動車、モバイル機器、エネルギー、医療、宇宙開発といった多岐にわたる最先端領域に対し、貴金属の優れた特性を活かした製品や素材を提供しています。具体的には、スマートフォンやパソコンの半導体に使われるボンディングワイヤ、音響・映像機器のマイクロモーター用貴金属クラッド材、通信機器や車載機器のリベット接点、燃料電池用触媒など、世界トップクラスのシェアを誇る製品を開発・製造しています。お客様の課題に対し、高い技術力と最適なソリューションで応え、必要最小限の貴金属で最大の効果を発揮させることを強みとしています。 資産用分野では、金地金やプラチナ地金、貴金属コインの売買を通じて、お客様の資産形成に貢献しています。同社の資産用事業は国内随一の取扱量を誇り、特に月々3,000円から金・プラチナ・銀を積み立てられる「純金積立」は、日本で初めて同社が発売した画期的な商品です。毎日公正・公平な価格を発表し、全国の直営店や特約店で安心して取引できる体制を整えています。また、同社は世界の金・銀市場で最も権威のあるLBMA（ロンドン金市場協会）およびLPPM（ロンドン・プラチナ・パラジウム・マーケット）の公認溶解・検定業者、さらには日本で唯一の公認審査会社として、貴金属の品位を保証する高い信頼性と実績を確立しています。貴金属リサイクルを追究し、循環型ビジネスを先駆けてきた同社は、サステナブルな未来を目指し、脱炭素・循環型社会への転換を先導する企業として、地球環境問題や社会課題の解決にも積極的に取り組んでいます。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
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売上高
4,192億円
純利益
239億円
総資産
1.2兆円
従業員数（被保険者）
2,363人 · 2026年7月
29期分（2024/03〜2026/07）
ROE単体
19.93% · 2025年12月
11期分（2016/03〜2025/12）
ROA単体
1.99% · 2025年12月
11期分（2016/03〜2025/12）
自己資本比率単体
9.98% · 2025年12月
11期分（2016/03〜2025/12）
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日本金属株式会社上場
【脱炭素・SDGs・ESG】東芝：国内最大級500kWの純水素燃料電池が稼働、田中貴金属工業湘南工場の電力34％を供給
田中貴金属工業、国内最大級500kWの純水素燃料電池設備を稼働：湘南工場の電力34％をカバー
田中貴金属、国内最大級500kW純水素燃料電池稼働 工場電力約34％賄う - kankyo
田中貴金属、水素社会実現へ「国内最大」燃料電池発電システム稼働：湘南工場の電力需要の34％を賄う（1/2 ページ）
田中貴金属、国内最大級500kW燃料電池発電設備「TANAKA H2 Nexus」を稼働開始
田中貴金属工業、湘南燃料電池発電所に純水素燃料電池設備「TANAKA H2 Nexus」を導入し稼働開始
田中貴金属工業湘南工場、燃料電池発電設備が稼働。発電能力500キロワット・CO2排出量26％減(鉄鋼新聞)
田中貴金属工業・湘南工場／燃料電池発電設備が稼働／発電能力５００キロワット、ＣＯ２排出量２６％減
田中貴金属工業株式会社は特許634件・意匠2件を保有しています。特許は材料・冶金などの分野が中心です。
特許
634件
登録 517
意匠
2件
登録 2
登録・現存
405件
審査中
83件
満了
3件
消滅
109件
拒絶・取下げ
34件
Ｃｏ－Ｃｒ－Ｐｔ－Ｂ系強磁性体スパッタリングターゲット登録2026・請求項6項
マグネトロンスパッタリング法で放電異常の起こらない安定した放電が得られる強磁性体スパッタリングターゲット
面内磁化膜、面内磁化膜多層構造、ハードバイアス層、磁気抵抗効果素子、およびスパッタリングターゲット
データ基準日: 2026年7月26日確認分
産業分野: 化学（383）・電気工学（195）・計測機器（87）・機械工学（56）
保磁力Ｈcが２．００ｋＯｅ以上で、かつ単位面積当たりの残留磁化Ｍrtが２．００ｍｅｍｕ／ｃｍ 2 以上を、磁性層の面内配向を促すための非磁性の下地層を用いず、かつ加熱成膜を行わずに達成する面内磁化膜
化学蒸着法によるルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜の製造方法及びルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜登録2026・請求項4項
基板の酸化を抑制しつつ高品位のルテニウム薄膜等を成膜する化学蒸着方法
Ｃｏ－Ｃｒ－Ｐｔ－酸化物系スパッタリングターゲット登録2026・請求項9項
組成及び漏洩磁束密度を変更する方策によらずに、スパッタリング時の電圧を安定させることができるスパッタリングターゲット及びその製造方法
ＰｄＣｕ系合金からなる水素透過膜登録2026・請求項3項
２００℃以下の低温域における水素透過性が改善された、ＰｄＣｕ系合金からなる水素透過膜
