東京都中央区に所在する、1975年設立・社会保険被保険者数87名の製造業(半導体・電子部品)企業。
- 所在地
- 〒103-0022 東京都 中央区 日本橋室町4丁目2番16号
- 法人番号
- 1010001119944
東京都中央区に所在する、1975年設立・社会保険被保険者数87名の製造業(半導体・電子部品)企業。
個人向け
2026年3月時点
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
株式会社天谷製作所は、半導体・太陽電池等の製造装置の製造、販売、およびアフターサービスを主要事業とする専門企業です。同社は1970年の創業以来、常圧CVD装置の開発・販売を通じて、半導体製造および研究開発プロセスの品質向上と生産性向上に貢献してきました。2010年には太陽電池分野への技術応用を拡大し、さらに2019年には株式会社トムコから装置事業を譲受することで、フォトマスク洗浄装置の製造・販売事業も継承しました。 同社の主要製品である常圧CVD装置は、半導体や太陽電池製造など多岐にわたる用途に対応し、少量生産から大量生産まで柔軟に対応可能です。SiO2、BPSG、BSG、PSGといった多様な膜種を、200℃から500℃の幅広い温度領域で成膜できる強みを持っています。特にSiCトレーの採用により重金属汚染を防止し、高品質な成膜を実現しています。枚葉式、連続式、バッチ式、太陽電池量産用、ガラス基板成膜用など、顧客のニーズに応じた幅広いラインナップを提供し、さらに顧客の要望に合わせたオーダーメード装置の設計・製造も一台から手掛けています。 また、フォトマスク洗浄装置「WULFシリーズ」は、LSIの高性能化に伴う高精細・高精度なフォトマスク/レチクルに対応したスピンタイプ洗浄装置です。機能水(オゾン水、アンモニア添加水素水)を使用し、洗浄面への高速拡散、異物・反応生成物の急速排除、ウォーターマークレス乾燥を実現。RCA洗浄液に代わる環境負荷の低い洗浄方法を採用し、完全室温洗浄やMoSiハーフトーンマスクのエッチング防止など、高い洗浄性能と環境配慮を両立しています。 同社は「品質と安全」を第一義とし、「チャレンジ精神」と「創意工夫」をモットーに新技術開発に挑戦し続けており、常圧CVDおよびフォトマスク洗浄装置の分野で「オンリーワン企業」を目指しています。顧客に対しては、経験豊富なエンジニアによる保守サポート、技術サポート(電話サポート、現地修理、性能向上、パーツ販売など)を提供し、装置の安定稼働と性能維持を強力に支援しています。これらの事業を通じて、同社は豊かな社会の構築に貢献しています。
2026年4月18日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
社会保険被保険者数
87人 · 2026年9月
34期分(2023/12〜2026/09)
被保険者数 前年同月比
+1.2% · 2026年9月
前年同月 86人(2025年9月)→ 87人(+1人)
このデータをAIで活用
Claude / ChatGPT / Cursor などの MCP 対応クライアントから、株式会社天谷製作所の決算・登記履歴・役員・関係企業・知財・公共調達などの構造化データを直接取得できます。無料 20 クレジット/月で利用可能、9 種類のツールを提供。
接続方法を見る解放した会社と並べて比較できます
同地域・同業種で選定
同業種の企業を読み込み中
株式会社天谷製作所は特許11件・意匠4件を保有しています。特許は半導体などの分野が中心です。
特許
11件
審査中・消滅含む 17件
意匠
4件
審査中・消滅含む 9件
登録・現存
11件
審査中
2件
うち審査請求なし 2件
満了
0件
消滅
0件
拒絶・取下げ
4件
薄板乾燥装置登録2026・請求項3項
構造を簡素化し、薄板を薄板載置部に確実に保持し、装置としての信頼性を向上させる薄板乾燥装置
半導体製造装置登録2025・請求項4項
半導体ウエハのあらゆる反り形状に対応可能であり、半導体ウエハの反りを平坦化するための作業時間を短縮し、噴射吸着面に半導体ウエハを吸着させ易くした半導体製造装置
データ基準日: 2026年9月17日確認分
薄板乾燥装置登録2025・請求項4項
構造を簡素化し、薄板を薄板載置部に確実に保持し、装置としての信頼性を向上させる薄板乾燥装置
半導体製造装置登録2024・請求項5項
半導体ウエハのあらゆる反り形状に対応可能であり、半導体ウエハの反りを平坦化するための作業時間を短縮し、噴射吸着面に半導体ウエハを吸着させ易くした半導体製造装置
半導体製造装置及び方法登録2024・請求項5項
半導体ウエハを平坦化するための作業時間を短縮し、吸着面に半導体ウエハを吸着させ易くし、その結果、製品の歩留まりを向上させることができる半導体製造装置
所在地を問わず同業種で選定
ザインエレクトロニクス株式会社上場
株式会社フェローテック上場
レーザーテック株式会社上場
日本電子材料株式会社上場
トレックス・セミコンダクター株式会社上場
アプライドマテリアルズジャパン株式会社
マイポックス株式会社上場
株式会社ニックス上場