証券コード429A東証プライム · その他製品
東京都港区に所在する、2021年設立・従業員（被保険者）545名の製造業（半導体・電子部品）企業。
- 所在地
- 〒105-0021 東京都 港区 東新橋１丁目５番２号
- 法人番号
- 1010401164466
- 所在ビル
- 汐留シティセンター(238 社)
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証券コード429A東証プライム · その他製品
東京都港区に所在する、2021年設立・従業員（被保険者）545名の製造業（半導体・電子部品）企業。
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法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
JPX (日本取引所グループ) 月次データおよび EDINET 提出者情報より。
テクセンドフォトマスク株式会社は、半導体用フォトマスクの製造・販売を主要事業とする企業です。同社は2022年4月に凸版印刷株式会社（現TOPPANホールディングス株式会社）からの会社分割により設立され、前身の事業から60年以上にわたるフォトマスク製造の歴史と技術的基盤を受け継いでいます。北米、欧州、アジア、日本を含む世界9カ所に製造拠点を展開しており、これらの地域に生産拠点を持つ世界で唯一のグローバルフォトマスクサプライヤーとして、半導体産業の発展に不可欠な役割を担っています。 同社の強みは、業界最先端の微細加工技術と、EUVリソグラフィー対応フォトマスクの共同開発など、常に市場が求める最先端技術を追求し続ける開発力にあります。半導体製造における不可欠な回路原版であるフォトマスクを提供することで、顧客である半導体メーカーの成功を強力に支援しています。また、半導体用フォトマスクに加えて、ナノインプリント用モールドをはじめとする微細加工製品へと事業領域を拡大しており、多様な用途に対応する製品ラインナップを揃えています。 同社は、約1,959名の多様なバックグラウンドを持つプロフェッショナルが「One Team」として機能し、グローバルな顧客サービスネットワークを通じてスピーディできめ細やかなサービスを提供しています。環境への配慮と持続可能な成長を重視し、AIやデジタル化といった新技術を積極的に導入することで、新たな価値創造と生産性の最大化を図っています。お客様やパートナー企業との連携を強化し、半導体の進化を通じて技術課題や社会課題の解決を目指すという「Tekscend」ブランドの理念を体現しています。同社は、変化の激しい半導体業界において、情報と知恵を結集し、お客様と社会に貢献しながら新しい未来を築くことを使命としています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
収益（IFRS）
1,296億円
純利益
249億円
総資産
2,307億円
従業員数（被保険者）
545人 · 2026年7月
29期分（2024/03〜2026/07）
ROE単体
6% · 2026年3月
5期分（2022/03〜2026/03）
ROA単体
4.06% · 2026年3月
5期分（2022/03〜2026/03）
自己資本比率単体
67.66% · 2026年3月
5期分（2022/03〜2026/03）
ROE連結
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14.3% · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
ROA連結
10.81% · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
自己資本比率連結
75.63% · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
EPS
76円 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
希薄化後EPS
75円 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
BPS
1,230円 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
PER
38倍 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
発行済株式総数
9,933万株 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
1株当たり配当金
56円 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
配当性向
72.9% · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
設備投資額
332億円 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
役員報酬総額
3.9億円 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
男性役員数
9人 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
女性役員数
2人 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
女性役員比率
18.2% · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
従業員数
499人 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
平均年齢
43歳 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
平均勤続年数
3年 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
平均年間給与
807万円 · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
女性管理職比率
8.4% · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
男女賃金格差（全体）
80.1% · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
男女賃金格差（正規雇用）
80.3% · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
男女賃金格差（非正規雇用）
57.9% · 2026年3月
1期分（2026/03〜2026/03）
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出典: edinet / 取得 2026年7月2日
採用根拠の trace 付き (Compalyze 独自)
| 指標 | 直近 | 前期比 | 5期 CAGR | 推移 (古 → 新) |
|---|---|---|---|---|
収益（IFRS） 百万円 | 129,576 FY2026 | +9.8% | +9.8% |
売上総利益 百万円 | 43,269 FY2026 | +5.2% | +5.2% |
営業利益 百万円 | 27,530 FY2026 | -2.4% | -2.4% |
当期純利益 百万円 | 24,947 FY2026 | +150.8% | +150.8% |
| 指標 | 直近 | 前期比 | 5期 CAGR | 推移 (古 → 新) |
|---|---|---|---|---|
EPS 円 | 261.1 FY2026 | +150.7% | +150.7% | |
潜在 EPS 円 | 257.0 FY2026 | +153.9% | +153.9% | |
BPS 円 | 1,230.9 FY2026 | +19.8% | +19.8% | |
DPS 円 | 56.0 FY2026 | — | — | — |
| 指標 | 直近 | 前期比 | 5期 CAGR | 推移 (古 → 新) |
|---|---|---|---|---|
ROE % | 17.2 FY2026 | +120.5% | +120.5% | |
自己資本比率 % | 75.6 FY2026 | +8.9% | +8.9% |
| 指標 | 直近 | 前期比 | 5期 CAGR | 推移 (古 → 新) |
|---|---|---|---|---|
総資産 百万円 | 230,725 FY2026 | +37.5% | +37.5% | |
総負債 百万円 | 56,218 FY2026 | +9.4% | +9.4% | |
純資産 百万円 | 174,507 FY2026 | +49.9% | +49.9% | |
自己資本 百万円 | 174,507 FY2026 | +49.9% | +49.9% | |
短期有利子負債 百万円 | 1,460 FY2026 | +265.9% | +265.9% | |
長期有利子負債 百万円 | 399 FY2025 | — | — | — |
流動負債 百万円 | 34,582 FY2026 | +3.8% | +3.8% | |
固定負債 百万円 | 40,289 FY2026 | -13.5% | -13.5% |
| 指標 | 直近 | 前期比 | 5期 CAGR | 推移 (古 → 新) |
|---|---|---|---|---|
営業 CF 百万円 | 36,061 FY2026 | +37.5% | +37.5% | |
投資 CF 百万円 | -35,150 FY2026 | -6.9% | — | |
財務 CF 百万円 | 19,862 FY2026 | +169.6% | — | |
現預金 百万円 | 51,552 FY2026 | +86.0% | +86.0% |
| 0.85% |
基準日 2026年3月31日 / 把握合計 67.6% / 出典 edinet
テクセンドフォトマスク株式会社は特許77件・商標4件を保有しています。商標は機械・エンジン（第7類）、特許は光学などの分野が中心です。
特許
77件
登録 44
商標
4件
登録 3
ＴｅＫＳＣｅｎＤ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア・物品加工・処理・印刷 · 登録2025
Ｔｅｋｓｃｅｎｄ Ｐｈｏｔｏｍａｓｋ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア・物品加工・処理・印刷 · 登録2025
Ｔｅｋｓｃｅｎｄ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア・物品加工・処理・印刷 · 登録2025
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法登録2026・請求項13項
マスク上におけるヘイズの発生を十分に抑制することができる位相シフトマスクブランク、ヘイズ欠陥の少ない位相シフトマスク及びその位相シフトマスクの製造方法
位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法登録2025・請求項11項
ヘイズ欠陥の少ない、即ちヘイズの発生を十分に抑制することができる位相シフトマスク及びその位相シフトマスクの製造方法
タングステンの貫通加工品を作製するためのタングステンブランクス、及びタングステンブランクスを用いたタングステン貫通加工品の製造方法
産業分野: 計測機器（67）・化学（13）・電気工学（13）・機械工学（5）
数十μｍ径レベルの貫通孔を高アスペクト比で形成し、サブミクロンレベルの高い加工精度も有するタングステン加工品を作製することができるタングステンブランクス、及びそのようなタングステン加工品の製造方法
フォトマスクブランクおよびフォトマスク登録2025・請求項7項
高エッチレート層を含む遮光層を用いても、遮光層のサイドエッチ量が増加し、形成されたパターンの側壁がくびれ形状になってしまうことで微細パターンの精度の低下や、ひいては倒壊が引き起こされることがない、フォトマスクおよびフォトマスクブランク
電子線描画データ加工方法、描画方法およびインプリントモールドの製造方法登録2025・請求項3項
１００ｎｍ未満を含む複数のサイズの円形パターンが含まれる設計に対しても、高速で描画し、真円性を良好に保ったパターニング形状を得る方法
前年同期比・連結
2026年3月31日 期末の半期は前年同期比で収益（IFRS）が 3.8%増、営業利益が 13.3%減、純利益が 41.5%増。
収益（IFRS）
▲ 3.8%
617.71億円（前年同期 595.16億円）
営業利益
▼ 13.3%
128.96億円（前年同期 148.78億円）
純利益
▲ 41.5%
123.5億円（前年同期 87.28億円）
出典: EDINET 半期報告書（通期進捗ではなく前年同期との比較）
