法人向け(製造業・製造業・医療・ヘルスケア)
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
株式会社IIPTは、ガスクラスターイオンビーム技術およびイオンビームスパッタリング技術を核とした応用装置の研究開発から製造、販売、メンテナンス、さらには同装置を用いたプロセスの立ち上げ加工処理までを一貫して手掛ける企業です。同社は、これらの革新的なイオンビーム技術に関する深い知識、経験、実績を持つ専門家集団によって構成されています。主要製品であるGCIB応用装置は、三室構造を標準とし、クラスター生成・イオン化機能がプロセス室と独立しているため、長期にわたる安定稼働が可能です。CVDダイヤモンドやWCなどの難加工材料から有機材料まで、幅広い材料の表面を超平滑化加工できるほか、最大50KVまでのビーム加速実績やサブミリメートルまでのビーム径絞り込みにより、超平滑化トリミング加工や低エネルギーGCIBアシストによる高品位薄膜成膜も実現します。半導体プロセスにおける低エネルギーイオン注入、高品位成膜、表面平滑化、微細構造物の表面平滑化、医療材料の表面改質、さらには携帯電話や小型電子カメラ用非球面レンズの高精度金型(Ni、WC)への応用など、多岐にわたる分野でその威力を発揮しています。一方、IBS装置は大型RFイオンソースを2台装備し、イオンアシスト成膜が可能な高完成度を誇ります。高品位な光学多層膜の形成や高精度光学モニタと成膜制御により、光通信用フィルターや超低損失・高耐性光学薄膜の形成・生産に適しており、WDM通信における波長分離フィルターや利得等化フィルターの製造に貢献しています。同社は研究開発サービスや技術コンサルティングも提供し、最先端テクノロジー、地球環境、医療福祉といった新しい応用分野への挑戦を続けています。最近では、GCIBで超平滑化加工した大口径ダイヤモンドウエハの常温接合に世界で初めて成功し、パワー半導体デバイスの高性能化に貢献するなど、その技術力は国内外で高く評価されています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数(被保険者)
3人 · 2026年7月
31期分(2023/12〜2026/07)
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日本電子材料株式会社上場
株式会社IIPTは特許6件を保有しています。特許は電気機械・装置・エネルギーなどの分野が中心です。
特許
6件
登録 2
登録・現存
2件
審査中
3件
うち審査請求なし 2件
満了
0件
消滅
0件
拒絶・取下げ
1件
接合基板の製造方法及び接合基板の製造装置登録2026・請求項6項
平滑化加工から超低損傷な表面活性化処理を一貫して行える接合基板の製造方法及び接合基板の製造装置
イオンガン及びイオンビームスパッタリング装置登録2024・請求項2項
イオン引き出しグリット群の最前段のグリッドにターゲット物質が堆積することがないイオンガン、及び、該イオンガンを備えたイオンビームスパッタリング装置
データ基準日: 2026年7月29日確認分