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法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
アトナープ株式会社は、デジタル分子プロファイリング技術を核に、半導体製造および医薬品製造プロセスにおける精密なリアルタイム分子レベル制御ソリューションを提供する企業です。同社は、革新的な質量分析計プラットフォーム「ASTON」シリーズを展開し、製造現場の「見えない」分子レベルの変化を可視化することで、顧客の生産性向上、品質安定化、コスト削減に貢献しています。 主要製品の一つである「ASTON Impact」は、半導体製造プロセスに特化したIn situ計測技術を提供します。これは、成膜、エッチング、クリーニングといった各プロセスにおいて、微量なガスや物質の変化をリアルタイムで監視・解析し、プロセスの健全性を診断、異常発生時には即座に通知するものです。これにより、原子レベルでの精密な膜厚や組成の把握、エッチング終点の正確な検知、チャンバークリーニングの最適化を実現し、不良発生の根本的な防止と歩留まりの最大化を可能にします。特に、ALD（原子層堆積）やALE（原子層エッチング）のような先端半導体プロセスにおいて、従来の計測技術では困難だった高精度な終点検知や腐食性ガス環境下での堅牢な運用を可能にし、大幅なスループット向上とコスト削減に寄与しています。 もう一つの主要製品「ASTON Lyo」は、医薬品製造における凍結乾燥プロセス向けに開発された残留ガス分析計です。同製品は、新開発のパルスインジェクション機能付きガス導入系により、シリコンオイル汚染による質量分析装置の性能低下を防ぎ、凍結乾燥中のプロセスガスを効率的かつ連続的に高精度で測定することを可能にします。これにより、装置の運用期間を延長し、ダウンタイムを削減しながら、凍結乾燥プロセスの品質向上と生産性向上に貢献します。 同社の強みは、小型で高性能、高感度かつリアルタイム性を有する質量分析プラットフォームと、腐食性ガス環境下でも長寿命を実現する独自のuPlasmaイオン源技術にあります。これらの技術は、半導体製造装置メーカーや製薬業界、さらには将来的な拡大市場としてEVバッテリー製造分野の顧客に対し、データ駆動型の精密なプロセス制御と自動化ソリューションを提供し、国際競争力の確保に貢献することを目指しています。NEDOの「ディープテック・スタートアップ支援事業」に採択されるなど、その技術力は高く評価されており、AIを活用したデータ分析ソフトウェアの開発も加速させています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
-15億円
総資産
7.3億円
従業員数（被保険者）
20人 · 2026年7月
32期分（2023/12〜2026/07）
ROE単体
-255.8% · 2025年3月
3期分（2023/03〜2025/03）
ROA単体
-206.31% · 2025年3月
3期分（2023/03〜2025/03）
自己資本比率単体
80.65% · 2025年3月
3期分（2023/03〜2025/03）
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アトナープ株式会社は特許94件・商標8件を保有しています。商標は電子機器・ソフトウェア（第9類）、特許は計測などの分野が中心です。
特許
94件
登録 70
商標
8件
登録 8
※登録商標の指定商品・役務の区分です。企業の事業分野そのものではありません。
ＡＴＯＮ
電子機器・ソフトウェア・医療用機械器具 · 登録2023
Ａ∞ＡＴＯＮＡＲＰ
電子機器・ソフトウェア・医療用機械器具 · 登録2022
ＡＴＯＮ－３６０
電子機器・ソフトウェア・医療用機械器具 · 登録2021
ＨｙｐｅｒＱｕａｄ
電子機器・ソフトウェア · 登録2021
ＡＳＴＯＮ
電子機器・ソフトウェア · 登録2021
ＯＬＰ
IT・研究開発・デザイン · 登録2012
ファイバーレーザーモジュールを含むシステム登録2025・請求項9項
システムの基本的な光源（ソース光）を提供するファイバーレーザーモジュールのステージに適切なポンプパワーが供給されたシステム
ＣＡＲＳ用発光源および測定システム登録2025・請求項11項
ＣＡＲＳ信号を取得するために出力される第１の波長領域のストークス光と、前記第１の波長領域よりも短い第２の波長領域のポンプ光と、前記第２の波長領域より短い波長領域のプローブ光とを生成する発光源
産業分野: 計測機器（51）・電気工学（24）・化学（6）
ガス分析装置登録2025・請求項7項
プロセスチャンバーで実施されるプロセスを安定して制御できることが要望されている。
プラズマ生成装置登録2024・請求項6項
安定したイオン源として利用可能とするためのプラズマの浮遊電位の制御
ハイブリッド光学システム登録2024・請求項12項
生体の関心対象の部分の組成物を非侵襲で、また、より高い精度で評価可能なシステム
