法人向け（製造業）
2026年3月時点
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
神港精機株式会社は、各種真空ポンプ、真空諸装置、各種精密電気炉、半導体関係機器、各種精密投影機、特殊光学機器の製造・販売を主要事業とする真空技術の老舗メーカーです。同社は1951年に国産化が求められた真空ポンプと真空装置の製造に成功して以来、70年以上にわたり真空技術を磨き続けてきました。製品ラインナップは、ドライ真空ポンプ（スクリュー式SST/SSXシリーズ、SSHシリーズ）、油回転真空ポンプ（直結型SGHシリーズ、SR/SRPシリーズ、SVCシリーズ）、水封式真空ポンプ、メカニカルブースタポンプ、真空排気ユニット、油拡散ポンプ、真空弁といった多岐にわたる真空ポンプ・コンポーネントを提供しています。 また、薄膜形成装置としてマルチチャンバスパッタリング装置、ロードロックスパッタリング装置、バッチスパッタリング装置、インラインスパッタリング装置、巻取式スパッタリング装置、超高真空スパッタリング装置、研究開発用スパッタリング装置、標準型蒸着装置、リフトオフプロセス対応蒸着装置などを手掛け、硬質膜形成装置ではPIG式DLC膜形成装置やアークフィラメント型イオンプレーティング装置（AF-IP装置）を提供しています。プラズマ処理装置では大気圧プラズマ装置SSC-APシリーズ、ICPメタルエッチング装置、巻取式プラズマ処理装置、プラズマエッチング装置EXAMなどを展開し、半田付・接合装置、真空熱処理装置、光学検査装置も製造・販売しています。 同社の強みは、お客様の「こんなことがしたい」という要望を具現化する高い技術力にあり、決まった製品だけでなく、顧客のニーズに応じたカスタムソリューションを提供しています。薄型テレビの初期開発への参画や、大学・研究所への技術導入実績を持ち、家電、半導体、自動車など幅広い産業分野でその技術が採用されています。特に一部の真空ポンプでは国内トップシェアを誇り、ドライ真空ポンプやアーク放電型マグネトロンスパッタリング装置は「関西ものづくり新撰」に選定されるなど、その技術力は高く評価されています。ISO9001およびISO14001認証を取得し、品質と環境への責任を果たすとともに、SDGs達成に向けた取り組みも推進しています。国内市場の強化に加え、インドなど海外への販売強化も進めることで、持続可能な社会の実現に貢献し、次世代のものづくりを支える企業として進化を続けています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
1.3億円
総資産
61億円
社会保険被保険者数
188人 · 2026年9月
34期分（2023/12〜2026/09）
ROE単体
7.27% · 2023年12月
1期分（2023/12〜2023/12）
ROA単体
2.09% · 2023年12月
1期分（2023/12〜2023/12）
自己資本比率単体
28.7% · 2023年12月
1期分（2023/12〜2023/12）
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接続方法を見る同地域・同業種で選定
同業種の企業を読み込み中
純利益
1.3億円
総資産
61億円
所在地を問わず同業種で選定
株式会社ナンシン上場
オイレス工業株式会社上場
株式会社小松製作所上場
酒井重工業株式会社上場
ヴィスコ・テクノロジーズ株式会社上場
日本アイ・エス・ケイ株式会社上場
濱井産業株式会社上場
株式会社荏原製作所上場
神港精機株式会社は特許34件・商標10件を保有しています。商標は機械・エンジン（第7類）、特許は表面技術・コーティングなどの分野が中心です。
特許
34件
審査中・消滅含む 151件
商標
10件
実用新案
0件
審査中・消滅含む 1件
登録・現存
34件
審査中
0件
満了
3件
消滅
51件
拒絶・取下げ
64件
※各区分の現存登録・審査中・消滅の件数です。企業の事業分野そのものではありません。
産業分野: 化学（現存21）・電気工学（現存9）・機械工学（現存4）・計測機器（現存4）
マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法登録2026・請求項3項
マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法において、複数種類の反応性ガスを真空槽内に同時に導入して反応膜を形成する場合にも、高い再現性
マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法登録2026・請求項5項
マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法において、スパッタ速度を安定化させて、良好な再現性で反応膜を形成する。
反応性イオンプレーティング装置および方法登録2025・請求項7項
反応性イオンプレーティング装置および方法において、高品質な絶縁性被膜を安定的に形成する。
イオンプレーティング装置および方法登録2025・請求項5項
膜厚モニタのような成膜速度を監視するための専用の手段を設けずとも、当該成膜速度を一定に維持し、ひいては良好な再現性で単一元素膜を形成する。
マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法登録2024・請求項9項
マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法において、絶縁性被膜を形成するための成膜処理を安定的に行うことで、均質な絶縁性被膜を形成する。
データ基準日: 2026年8月13日確認分
