法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
サンアプロ株式会社は、消費者からは直接見えないものの、現代社会の多岐にわたる製品に不可欠な高付加価値ファインケミカル製品の開発、製造、販売を手掛ける企業です。同社は主に光酸発生剤、熱酸発生剤、超強塩基、熱塩基発生剤の4つの主要製品群を展開し、自動車、飛行機、半導体、3Dプリンター、ディスプレイ、医薬品など、幅広い産業分野の顧客に貢献しています。 光酸発生剤は、光照射により酸を発生させる化合物であり、同社の「CPI®シリーズ」や「IKシリーズ」が代表的です。特に「CPI®-100シリーズ」は、独自製法による高純度モノスルホニウム塩タイプで、有機溶剤やマトリックス樹脂への優れた溶解性、エポキシ樹脂などのカチオン重合性組成物における一液貯蔵安定性を実現しています。これらの製品は、エポキシ樹脂のカチオン重合開始剤、半導体製造に用いられる化学増幅レジスト樹脂の脱保護反応、フェノール樹脂を用いた架橋反応などに利用され、微細化や高機能化が求められる電子材料分野で重要な役割を担っています。 熱酸発生剤は、加熱によって酸を発生させるオニウム塩型の化合物で、「TA」「IK」「AAシリーズ」を提供しています。電子材料や光学材料分野における熱カチオン硬化型の接着剤やコーティング剤として活用され、高活性かつ高機能なオリジナル製品の開発にも注力しています。 超強塩基である「DBU®」および「DBN」は、1967年に同社が世界で初めて工業化に成功した極めて強い塩基性を示す有機化合物です。これらは各種有機合成反応や重合・架橋反応の触媒として広く利用されており、従来の3級アミンや無機系塩基性触媒と比較して、より温和な条件で反応収率と選択性の向上を可能にするという強みを持っています。また、熱塩基発生剤としては、DBU®やDBNを各種有機酸と組み合わせることで熱潜在性を付与した「U-CAT SA®」「U-CAT®シリーズ」を展開し、多様な用途に対応しています。 同社のビジネスモデルは、顧客の開発を支援することに重点を置いており、製品開発担当者や研究者に対して、製品特性、データ、技術情報を提供し、課題解決に貢献しています。また、近年世界的に規制が強化されている有機フッ素化合物の使用を避け、カーボンニュートラルを意識した製品開発を進めるなど、環境保護への配慮も重要な強みです。PFASフリー製品の開発に注力し、持続可能な社会への貢献を目指しています。同社は、微細化・高純度化といった未来に向けた技術課題に挑戦し、スーパーコンピューターや生成AIの進化を支える素材開発を通じて、社会の発展に寄与しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
9.8億円
総資産
47億円
社会保険被保険者数
1人 · 2026年9月
31期分（2024/03〜2026/09）
ROE単体
26.48% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
ROA単体
20.8% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
自己資本比率単体
78.57% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
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純利益
9.8億円
総資産
47億円
サンアプロ株式会社は特許81件・商標7件を保有しています。商標は工業・農業用化学品（第1類）、特許は光学などの分野が中心です。
特許
81件
審査中・消滅含む 209件
商標
7件
審査中・消滅含む 9件
登録・現存
81件
審査中
19件
うち審査請求なし 8件
満了
0件
消滅
29件
拒絶・取下げ
80件
産業分野: 化学（現存49）・計測機器（現存38）・電気工学（現存8）・機械工学（現存1）
ＰＵＲＥＣＡＴ
工業・農業用化学品 · 登録2021
ＣＰＩ
工業・農業用化学品 · 登録2003
光酸発生剤、硬化性組成物及びレジスト組成物登録2026・請求項12項
i線に高い光感応性を有し、かつエポキシ化合物等のカチオン重合性化合物との配合物において貯蔵安定性の優れた、スルホニルイミド塩化合物を含んでなる新たな光酸発生剤、及びそれを含んでなる、エネルギー線硬化性組成物、化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物及び化学増幅型ネガ型フォトレジスト組成物
スルホニウム塩、前記スルホニウム塩を含む酸発生剤、及び前記スルホニウム塩を含むフォトレジスト登録2026・請求項5項
超短波長の光線を照射すると、速やかに分解して酸を発生する、新規のスルホニウム塩
有機金属化合物、フォトレジスト用感光材、及びフォトレジスト登録2026・請求項7項
超短波長の光線を露光することで、高解像度のパターンを有し、且つエッチング耐性に優れるレジスト膜を形成するレジスト材料に好適な有機金属化合物
ノニオンオキシム型化合物、有機金属化合物、酸発生剤、レジスト用感光材、及びレジスト、登録2026・請求項6項
超短波長の光線を照射すると、速やかに分解して酸を発生する、新規のノニオンオキシム型化合物
有機金属化合物、フォトレジスト用感光材、及びフォトレジスト登録2026・請求項4項
超短波長の光線を露光することで、高解像度のパターンを有し、且つエッチング耐性に優れるレジスト膜を形成するレジスト材料に好適な有機金属化合物
データ基準日: 2026年9月10日確認分
所在地を問わず同業種で選定
日産化学株式会社上場
日本曹達株式会社上場
日本パーカライジング株式会社上場
ＫＩＮＣＨＯ園芸株式会社
株式会社ＪＥＰＬＡＮ
ＮＯＫ株式会社上場
クミアイ化学工業株式会社上場
藤倉化成株式会社上場
