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法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
ヒューグルエレクトロニクス株式会社は、1969年の創業以来、半導体産業の黎明期からクリーン化技術のパイオニアとして、半世紀以上にわたり高度な技術と製品を提供し続けています。同社の主要事業は、半導体及びフラットパネル製造関連機器、静電気除去装置（イオナイザ）・静電気測定機器、半導体容器洗浄装置、FPD及びウェブ超音波ドライクリーナーの開発・製造・販売・輸出入です。 特に、半導体容器洗浄装置においては、ウェハ専用容器（カセット、ボックス）、レチクル専用容器など、200mm以下から300mm（FOUP・FOSB）まで幅広いサイズに対応し、マニュアル機からフルオート機まで多様なラインナップを展開しています。ナノレベルのパーティクル除去を実現する高い洗浄性能は世界中で評価され、トップシェアメーカーとして業界のワールドスタンダードを確立しています。EUV POD洗浄装置では特許も取得しており、最先端技術への対応力も強みです。 超音波ドライクリーナーは、超音波振動エアーを用いた非接触式のドライ洗浄技術で、ワーク表面のミクロン径異物を剥離・回収します。フラットパネルディスプレイ、半導体、光学フィルム、二次電池など、異物管理が極めて重要な幅広い業界で歩留まり向上に貢献しています。顧客の工程条件や基材特性に合わせた最適な装置設計・製作を行い、東京と大阪にデモルームを設置し、テスト機貸し出しサービスを通じて顧客の問題解決をサポートしています。 静電気除去装置であるイオナイザは、半導体業界の微細化・3D化、FPD業界の大型基板・有機EL・量子ドット・マイクロLED、二次電池・燃料電池といった最先端分野で、静電気放電による絶縁破壊防止やパーティクル対策に不可欠なソリューションを提供します。ブロワー、ガン、バータイプなど多様な製品に加え、石油化学、鉄鋼、自動車塗装、食品、医薬品、化粧品業界向けに防爆対応の静電気対策製品も提供し、安全な生産環境の確保を支援しています。 さらに、半導体ウェハやプリント基板の不良品・良品識別を行うマーキングシステムや、半導体製造の後工程向けにBGテープ貼付装置、ウェハテープマウンティング装置、ダイソーター、ダイボンダーなどの組立関連装置も幅広く取り扱っています。同社は、顧客満足度ナンバーワンを目指し、迅速かつ完全なアフターサービスを提供するとともに、ISO14001認証取得など環境保全にも積極的に取り組むことで、持続可能な社会の発展に貢献しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
3.5億円
総資産
66億円
従業員数（被保険者）
80人 · 2026年7月
29期分（2024/03〜2026/07）
ROE単体
9.19% · 2024年3月
1期分（2024/03〜2024/03）
ROA単体
5.27% · 2024年3月
1期分（2024/03〜2024/03）
自己資本比率単体
57.37% · 2024年3月
1期分（2024/03〜2024/03）
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ヒューグルエレクトロニクス株式会社は特許91件・商標23件・意匠9件・実用新案5件を保有しています。商標は機械・エンジン（第7類）、特許は電気機械・装置・エネルギーなどの分野が中心です。
特許
91件
登録 34
商標
23件
登録 17
意匠
9件
登録 9
実用新案
5件
登録 4
※登録商標の指定商品・役務の区分です。企業の事業分野そのものではありません。
ｅ‐ｌｅｓｓ
機械・エンジン · 登録2021
ｈ∞Ｈｕｇｌｅ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア・照明・加熱・衛生装置 · 登録2018
ジェットエミッター
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア · 登録2009
フレキシブルＡＣ
機械・エンジン · 登録2007
ＶＰＶクリーナー
機械・エンジン · 登録2005
イオン分布可視化装置及びイオン分布可視化システム登録2022・請求項7項
イオン発生源から除電対象物に向けて放射された正負イオンの分布状態やイオン濃度を容易に把握可能としたイオン分布可視化装置及びイオン分布可視化システム
基板ケース分離合体装置及び基板ケース洗浄装置登録2018・請求項10項
ロック機構を備えた基板ケースのベースとカバーとを確実に分離及び合体させることのできる基板ケース分離合体装置を提供することである。
産業分野: 電気工学（60）・化学（25）・計測機器（19）・機械工学（8）
ガス浄化装置登録2017・請求項8項
異物の混入や大気の侵入を防止しつつガスを浄化すると共に、ブロワ内のモータを効率よく冷却可能としたガス浄化装置
基板ケース洗浄装置登録2017・請求項2項
基板ケースの洗浄後に把持ハンドから汚染物資が移って基板ケースを汚染する事態の防止を図る。
基板ケース洗浄装置登録2016・請求項4項
載置台から支持台への移載を複雑になることなく簡易にし、しかも、支持台への位置決めも容易に行うことができるようにする。
