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法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
株式会社エイ・エス・エイ・ピイは、半導体製造工程におけるフォトリソグラフィー処理装置の製造・販売を主軸とする企業です。具体的には、レジスト塗布・現像を行うコーター／デベロッパー、高圧ジェットを用いたリフトオフ装置、そしてマスクアライナーといった主要製品を提供しています。同社は、シリコン半導体、化合物半導体、マイクロマシン向けの装置に注力し、直径2～8インチのウェハや不定形基板に対応する柔軟な設計が特徴です。設計から製造までを一貫して自社で行うことで、顧客の工場面積、生産効率、用途に合わせたフルカスタマイズを実現し、低価格かつコンパクトな装置提供を可能にしています。これにより、顧客の生産効率を大幅に向上させ、不良品率を4%から1%台へ削減した実績も有しています。また、2022年7月には株式会社南陽の100%子会社となり、南陽グループの一員として事業を展開しています。 主要製品であるコーター／デベロッパーは、レジスト、ポリイミド、ドーパントの塗布・ベーキングをC to Cのフルオートで行い、低粘度から高粘度まで幅広い薬液に対応します。特に、特許取得済みの回転カップコーター（第3821468号）は、角基板への全面均一塗布や高粘度薬液の省レジスト塗布を可能にします。リフトオフ装置には、同社独自の特殊ノズルによるマイクロキャビテーション高圧洗浄技術が採用されており、DIP槽を持たないコンパクトな筐体で、再付着のない完全枚葉スピン処理を実現し、厚膜メタルや微細パターンにも対応します。マスクアライナーは、高精度レーザー変位計を用いた完全非接触での平行度調整と露光が可能で、マスクやウェハへのダメージを防ぎつつ、省スペースとオートアライメントによる高精度な露光を提供します。これらの装置は、R&D用途のマニュアル機から量産装置まで、顧客の多様なニーズに応じたオーダーメイド対応を強みとしています。 同社は、これらの装置製造販売に加え、半導体素子製造材料の販売、半導体素子の販売、および半導体素子製造に関するコンサルティング業務も手掛けています。国内外の半導体・電子部品工場や研究機関を主要な顧客とし、SAWフィルタ、フォトマスク、LED、パワーデバイス用サブマウント、ロータリーエンコーダ、水晶デバイス、オプトデバイスなど幅広い分野に応用されています。埼玉県さいたま市に本社、沖縄県うるま市に工場を構え、アジア圏（中国・台湾・韓国・アセアン地区）、米国、EU圏などグローバルな市場でサービス提供とサポート体制を確立しています。
2026年5月16日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
34人 · 2026年7月
31期分（2023/12〜2026/07）
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日本電子材料株式会社上場
株式会社エイ・エス・エイ・ピイは特許5件・商標1件を保有しています。商標は機械・エンジン（第7類）、特許は半導体などの分野が中心です。
特許
5件
登録 3
商標
1件
登録 1
登録・現存
0件
審査中
2件
満了
0件
消滅
3件
拒絶・取下げ
0件
ＡＳＡＰ
機械・エンジン · 登録2013
基板把持構造、基板把持用治具及び基板把持方法登録2012・請求項5項
破損等に関わらず基板の利用率を高め、かつ、カセット等の汎用性を高める。
基板処理装置登録2011・請求項2項
使用済みの種類の異なる薬液を混合されない状態で回収して再利用する。
データ基準日: 2026年7月23日確認分
産業分野: 電気工学（5）・化学（2）・機械工学（1）・計測機器（1）
回転塗布装置及びその塗布方法登録2006・請求項23項
本発明の目的は、半導体ウエハ、液晶用基 板、あるいはフォトマスク用基板等の基体上に均一性の ある膜を形成可能な液体塗布装置およびその塗布方法を 提供する。
